10月16日(木) 午後
13:00 - 17:30 |
(1)
IEICE-MRIS |
13:00-13:50 |
［招待講演］超伝導回路による高速乱数生成とその応用 |
○山梨裕希（横浜国大） |
(2)
IEICE-MRIS |
13:50-14:40 |
［招待講演］高周波スピントロニクスデバイスの新機能と特性 |
○後藤 穣（東理大） |
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14:40-14:50 |
休憩 （ 10分 ） |
(3)
MMS |
14:50-15:40 |
［招待講演］軟磁性Fe基合金薄膜のエピタキシャル成長技術と磁歪特性評価 |
○大竹 充・今村光佑（横浜国大） |
(4)
IEICE-MRIS |
15:40-16:05 |
電圧制御型磁気トンネル接合の高性能化に向けた高品質トップフリーCoFe超薄膜の極低温結晶成長 |
○一ノ瀬智浩・山本竜也・野﨑隆行・薬師寺 啓・田丸慎吾・湯浅新治（産総研） |
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16:05-16:15 |
休憩 （ 10分 ） |
(5)
MMS |
16:15-16:40 |
反応性パルスDCスパッタリング法によるBiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の高品位作製 |
○吉村 哲・Swati S. DAS・江川元太（秋田大） |
(6)
IEICE-MRIS |
16:40-17:05 |
垂直磁界アシスト式振動発電デバイスにおける磁束還流挙動評価とヨークによる出力増加効果 |
○今村圭佑・神谷 颯・中村優太・大竹 充（横浜国大） |
(7)
IEICE-CPM |
17:05-17:30 |
走査型磁気光学顕微鏡の観察結果を用いた磁化分布推定 |
○蛯原 翼・小宮亮汰・松浦聖直・中村雄一・林 攀梅（豊橋技科大） |
10月17日(金) 午前
09:00 - 11:40 |
(8)
IEICE-MRIS |
09:00-09:50 |
［招待講演］高性能スピントロニクス実現に向けて：スピンと軌道の交差点 |
○金 俊延（産総研） |
(9)
IEICE-MRIS |
09:50-10:40 |
［招待講演］テンソルネットワーク法を用いた磁性体の研究 |
○大久保 毅（東大） |
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10:40-10:50 |
休憩 （ 10分 ） |
(10)
IEICE-CPM |
10:50-11:15 |
プラズマCVDにより作製したSiおよびN添加DLC膜のトライボロジー特性および電気的特性 |
○竹村凜太朗・山崎雄也・伊東翔太・鈴木裕史・遠田義晴・小林康之・中澤日出樹（弘前大） |
(11)
IEICE-CPM |
11:15-11:40 |
複数のK/Na比の混合粉末から作製したK₀.₄₅Na₀.₅₅NbO₃セラミックスの特性 |
木村一仁・○番場教子（信州大） |
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