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★シリコン材料・デバイス研究会(IEICE-SDM)
専門委員長 品田 高宏 (東北大)  副委員長 平野 博茂 (パナソニック・タワージャズ)
幹事 池田 浩也 (静岡大), 諸岡 哲 (東芝メモリー)
幹事補佐 森 貴洋 (産総研), 小林 伸彰 (日大)

★情報ディスプレイ研究会(IDY)


★電子ディスプレイ研究会(IEICE-EID)
専門委員長 小南 裕子 (静岡大)
副委員長 木村 睦 (龍谷大), 志賀 智一 (電通大), 山口 留美子 (秋田大)
幹事 伊達 宗和 (NTT), 山口 雅浩 (東工大)
幹事補佐 新田 博幸 (ジャパンディスプレイ), 中田 充 (NHK), 野中 亮助 (東芝), 奥野 武志 (ファーウェイ)

日時 2018年12月25日(火) 11:00~16:00

会場 龍谷大学 響都ホール 校友会館 (京都アバンティ 9階)

議題 シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術

12月25日(火) 午前 薄膜デバイス (11:00~13:15)

(1)/IEICE-SDM 11:00 - 11:15
プラスチック基板上のダブルゲートCu-MIC多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタ
○内海大樹(東北学院大)・北原邦紀・塚田真也(島根大)・鈴木仁志・原 明人(東北学院大)

(2)/IDY 11:15 - 11:30
分子配向性ゲート絶縁膜を有するボトムコンタクト型OTFTの作製と、SAM修飾電極がOTFT特性に与える影響
○濵地柱元・飯村靖文(農工大)

(3)/IDY 11:30 - 11:45
Ga-Sn-O薄膜を用いた二層構造抵抗変化型メモリの開発
○倉崎彩太・杉崎澄生・田中 遼・木村 睦(龍谷大)

(4)/IDY 11:45 - 12:00
ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
○滝下雄太・杉崎澄夫(龍谷大)・是友大地・曲 勇作・古田 守(高知工科大)・松田時宜・木村 睦(龍谷大)

−−− 昼食 ( 75分 ) −−−

12月25日(火) 午後 薄膜プロセス (13:15~14:30)

(5)/IEICE-SDM 13:15 - 13:30
Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果
○秋田佳輝・松尾直人(兵庫県立大)・小濱和之・伊藤和博(阪大)

(6)/IEICE-SDM 13:30 - 13:45
酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果
○大貫智史・部家 彰・松尾直人(兵庫県立大)

(7)/IEICE-SDM 13:45 - 14:00
Arクラスター照射によるDNA/Si-MOSFETに対する影響
○中野 響・松尾直人・部家 彰・山名一成・高田忠雄・盛谷浩右・乾 徳夫・佐藤 佑(兵庫県立大)・佐藤 旦・横山 新(広島大)

(8)/IDY 14:00 - 14:15
Ga-Sn-O TFT特性のUVアニール依存性解析
○谷野健太・高木 瞭・松田時宜・木村 睦(龍谷大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

12月25日(火) 午後 新規アプリケーション (14:30~16:00)

(9)/IDY 14:30 - 14:45
Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性
○池口 翼・荒牧達也(龍谷大)・梅田鉄馬・上沼睦典(奈良先端大)・是友大地・曲 勇作・古田 守(高知工科大)・木村 睦(龍谷大)

(10)/IDY 14:45 - 15:00
ミストCVD法により作製したGa-Sn-O薄膜熱電変換素子の評価
○荒牧達也・野村竜生・池口 翼・松田時宜(龍谷大)・梅田鉄馬・上沼睦典(奈良先端大)・木村 睦(龍谷大)

(11)/IDY 15:00 - 15:15
酸化物半導体を用いた多重構造のクロスポイント型シナプス
○近藤厚志・田中 遼・津野拓海・杉崎澄生・生島恵典・山川大樹・柴山友輝・新村純平・木村 睦(龍谷大)

(12)/IDY 15:15 - 15:30
Ga-Sn-O薄膜を用いたニューラルネットワークの文字認識
○新村純平・生島恵典・田中 遼・山川大樹・近藤厚志・柴山友輝・津野拓海(龍谷大)・中島康彦(奈良先端大)・木村 睦(龍谷大)

(13)/IDY 15:30 - 15:45
脳型集積システムのためのIGZO薄膜シナプス
○柴山友輝・山川大樹・生島恵典・杉崎澄生・木村 睦(龍谷大)・中島康彦(奈良先端大)

(14)/IDY 15:45 - 16:00
Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜をシナプスに用いたニューラルネットワーク
○宮部雄太・新村純平・吉田 誉・小川功人(龍谷大)・羽賀健一・徳光永輔(北陸先端大)・木村 睦(龍谷大)



☆IEICE-SDM研究会

【問合先】
黒田 理人(東北大)
Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4834
E-mail: e3

☆IDY研究会

☆IEICE-EID研究会


Last modified: 2018-10-23 13:16:09


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