研究会 - 情報ディスプレイ研究会 (IDY)

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情報ディスプレイ研究会 (IDY) (検索条件: 2010年度)

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講演検索結果

登録講演（開催プログラムが公開されているもの） （日付・昇順）

研究会	発表日時	開催地		タイトル・著者	抄録	資料番号
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:00	高知	高知工科大学	ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体～スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て～ ○王　大鵬・川原村敏幸・李　朝陽・平尾　孝（高知工大）	非常に効率の良い蛍光体の開発は、ディスプレイ産業界の発展につながる。蛍光体は、現在粉末蛍光体が主体であり、保持の問題やマ... [more]	IDY2011-1 pp.1-3
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:05	高知	高知工科大学	電子線励起紫外発光ZnAl2O4蛍光体の焼成条件依存性 ○井口　拓・小南裕子・中西洋一郎・原　和彦（静岡大）・大西彰正・北浦　守（山形大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:15	高知	高知工科大学	［ポスター講演］355 nmレーザアニールによる希土類添加SrGa2S4薄膜蛍光体の作製 ○山崎貴久（静岡大）・清野俊明（日本製鋼所）・小南裕子・中西洋一郎（静岡大）・畑中義式（愛知工科大）・原　和彦（静岡大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:20	高知	高知工科大学	［ポスター講演］電子スピン共鳴によるγ-AlON中二価マンガンイオンの局所構造解析 ○北浦　守（山形大）・解　栄軍・武田隆史・広崎尚人（物材機構）・大西彰正・佐々木　実（山形大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:30	高知	高知工科大学	溶液合成法により作製したYAG:Ceにおける生成過程の解析 ○村川琢郎（鳥取大）・大倉　央（鳥取大/メルク）・本間徹生（高輝度光科学研究センター）・宮本快暢・大観光徳（鳥取大/TEDREC）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:35	高知	高知工科大学	多源蒸着法で作製したCuAlS2:Mn蛍光体薄膜の結晶学特性と発光特性 ○小柴貴裕・中村祐介・宮本快暢・大観光徳（鳥取大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 13:45	高知	高知工科大学	Ba3Si6012N2:Eu2+蛍光体のフォト−および熱ルミネッセンス評価 ○石岡　亮・五十嵐航平・福田武司（埼玉大）・木島直人（三菱化学）・鎌田憲彦（埼玉大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:10	高知	高知工科大学	SrGa2S4:Eu微粒子蛍光体を用いてスピンコーティング法により作製した緑色無機薄膜EL素子 ○山下雄大・俵谷佳典・宮本快暢・大観光徳（鳥取大）	[more]	IDY2011-2 pp.29-32
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:15	高知	高知工科大学	赤外線急速加熱によるZnS系無機EL蛍光体の作製 ○堀口昌吾・紺谷拓哉・堀田昌宏（奈良先端大）・田口信義（イメージテック）・浦岡行治（奈良先端大/CREST）	硫化亜鉛(ZnS)等のII-VI族半導体材料を用いた分散型無機ELは，照明や次世代ディスプレイへの応用が期待されている．... [more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:25	高知	高知工科大学	トップエミッション型液相合成ZnOナノ結晶紫外発光EL素子の電流電圧特性 ○板谷和樹・河崎勇人・外山利彦・岡本博明（阪大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:35	高知	高知工科大学	深紫外領域AlGaN系結晶のフォトルミネッセンス評価 ○五十嵐航平・石岡　亮・塚田悠介・福田武司・本多善太郎（埼玉大）・平山秀樹（理研）・鎌田憲彦（埼玉大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:40	高知	高知工科大学	ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製～大気圧下、低温成長への挑戦～ ○川原村敏幸（高知工大）・織田容征・白幡孝洋（TMEIC）・井川拓人・伊藤大師（京大院工）・吉田章男（TMEIC）・藤田静雄（京大院工）・平尾　孝（高知工大）	酸化マグネシウム(MgO)薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、... [more]	IDY2011-3 pp.45-48
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:45	高知	高知工科大学	ナノ粒子散布による微細光学素子形状の3次元SEM測定 ○長南隆之・片桐　麦・川上　徹（東北大）・内田龍男（仙台高専）	近年ディスプレイに用いられる光学素子にはより高度な制御が求められ、その表面形状の3 次元的な測定評価の重要性が増している... [more]	IDY2011-4 pp.49-52
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-28 14:55	高知	高知工科大学	モスキートノイズの定量的評価 ○谷口香苗（近大高専）	[more]	IDY2011-5 pp.53-56
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:10	高知	高知工科大学	PDP用低電圧電極保護膜におけるプロセス耐性の改善 ○本山　靖・加藤大典・関　昌彦（NHK）	[more]	IDY2011-6 pp.61-64
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:20	高知	高知工科大学	ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察 ○坂井徹男（(有)ディスプレイ研究所）・橘　邦英（愛媛大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:25	高知	高知工科大学	偏光板の複素屈折率のエリプソメトリによる解析 ○近藤　勉・石鍋隆宏・宮下哲哉（東北大）・内田龍男（仙台高専）	近年、液晶ディスプレイは様々な用途で実用化されているが、明るさ、コントラスト比の改善はいまだ重要な課題である。このために... [more]	IDY2011-7 pp.69-72
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:40	高知	高知工科大学	［ポスター講演］ネマチック液晶材料によるポリビニルシンナメート配向膜の容易軸制御 ○山口留美子・池谷正輝（秋田大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:50	高知	高知工科大学	アダプティブディミング方式によるLCDの画質劣化の評価と低減方法 ○榊原和真・鈴木千晴・志賀智一（電通大）	[more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD (連催)	2011-01-29 09:55	高知	高知工科大学	低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 ○松田時宜・古田　守・平松孝浩・古田　寛・平尾　孝（高知工大）	[more]

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