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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2020-12-02
14:30
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 [特別招待講演]酸化物半導体の低温欠陥制御とフレキシブルデバイス応用
曲 勇作古田 守高知工大
 [more]
HI [詳細] 2011-12-10
11:20
沖縄 沖縄産業支援センター [招待講演]色弱模擬フィルタ利用カラーネーミングに基づく2色覚者の色の見えの検討
篠森敬三高知工大)・中内茂樹豊橋技科大
 [more] HI2011-89
p.69
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)
2011-01-28
13:00
高知 高知工科大学 ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 ~ スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て ~
王 大鵬川原村敏幸李 朝陽平尾 孝高知工大
非常に効率の良い蛍光体の開発は、ディスプレイ産業界の発展につながる。蛍光体は、現在粉末蛍光体が主体であり、保持の問題やマ... [more] IDY2011-1
pp.1-3
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)
2011-01-28
14:40
高知 高知工科大学 ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ~ 大気圧下、低温成長への挑戦 ~
川原村敏幸高知工大)・織田容征白幡孝洋TMEIC)・井川拓人伊藤大師京大院工)・吉田章男TMEIC)・藤田静雄京大院工)・平尾 孝高知工大
酸化マグネシウム(MgO)薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、... [more] IDY2011-3
pp.45-48
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)
2011-01-29
09:55
高知 高知工科大学 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
松田時宜古田 守平松孝浩古田 寛平尾 孝高知工大
 [more]
IST 2008-12-16
14:00
東京 東京大学本郷キャンパス 山上会館 酸化亜鉛TFTを信号読出し回路に用いた有機膜積層型撮像デバイス
瀬尾北斗相原 聡難波正和渡部俊久大竹 浩久保田 節江上典文NHK)・平松孝浩松田時宜古田 守平尾 孝高知工大
青・緑・赤色光のそれぞれに対してのみ感度を持つ有機光導電膜を積層した単板カラー撮像デバイスの検討を進めている.今回,青色... [more]
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