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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2019-12-24
13:45
奈良 奈良先端大(物質領域 大講義室) ミストCVD法によるGa-Sn-O薄膜を用いたメモリスタ開発
小林雅樹杉崎澄生木村 睦龍谷大
我々は酸化物半導体 Ga-Sn-O(GTO)薄膜を用いた抵抗変化型メモリ(ReRAM)についての研究を行っ ている。今回... [more] IDY2019-69
pp.5-8
IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2019-12-24
14:05
奈良 奈良先端大(物質領域 大講義室) Al2O3絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT
服部一輝谷野健太松田時宜木村 睦龍谷大)・川原村敏幸劉 麗高知工科大
絶縁体層としてAl2O3膜をミストCVD法 (mist CVD) により作製し,Al2O3膜の有無によるGa-Sn-O薄... [more] IDY2019-70
pp.9-12
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
14:30
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性
池口 翼荒牧達也龍谷大)・梅田鉄馬上沼睦典奈良先端大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・木村 睦龍谷大
RFマグネトロンスパッタリング装置を用いてGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し,成膜圧力及び結晶構造が熱電特性に与える影... [more] IDY2018-59
pp.33-36
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