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抄録
資料番号
IEICE-MRIS
,
IEICE-CPM
(共催)
MMS
(連催)
[詳細]
2025-10-16
16:15
愛知
豊橋技術科学大学（サテライト・オフィス）
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催）
反応性パルスDCスパッタリング法によるBiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の高品位作製
○
吉村 哲
・
Swati S. DAS
・
江川元太
（
秋田大
）
パルスDC反応性スパッタリング法は，複雑な結晶構造をとることが多い酸化物磁性薄膜を，低い酸素分圧かつ速い成膜速度で高品質...
[more]
MMS2025-43
pp.4-9
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