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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEICE-EID, IDY, IEE-EDD
(連催)
SID-JC, IEIJ-SSL
(共催)
(連催) [詳細]		 2024-01-26
09:30		 京都 龍谷大学響都ホール校友会館 + オンライン開催
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催）		 ［ポスター講演］湿式化学法によるヘテロ接合型g-C3N4/SnS2光触媒の開発
○森　耀平・Baskar Malathi・中村篤志（静岡大） 		人工光合成は太陽光を利用して二酸化炭素と水から炭化水素を合成する技術であり，新しい燃料生成技術として注目されている．人工... [more] IDY2024-1
pp.1-4
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細]		 2023-01-27
15:05		 ONLINE オンライン(Webex) 二次元層状薄膜ヘテロ接合による人工光合成光触媒への応用
○森　耀平・松岡晃汰・Baskar Malathi・中村篤志（静岡大） 		人工光合成は，太陽光を利用して，水と二酸化炭素を炭化水素系ソーラー燃料に変換する技術であり，地球温暖化問題とエネルギー供... [more] IDY2023-12
pp.49-52
IST 2022-03-28
09:30		 ONLINE オンライン開催 SOIウェハのハイブリッド接合を用いた3層積層画素並列CMOSイメージセンサ
○後藤正英・本田悠葵・難波正和・井口義則（NHK）・更屋拓哉・小林正治（東大）・日暮栄治（産総研）・年吉　洋・平本俊郎（東大） 		超高精細と高フレームレートを両立する次世代のイメージセンサを目指して，画素並列信号処理を行う3次元構造イメージセンサの研... [more] IST2022-11
pp.5-8
IST 2021-03-26
09:25		 東京 オンライン開催 プラズマプロセスにより形成される3次元欠陥分布が暗電流特性に及ぼす影響評価
○佐藤好弘・山田隆善・西村佳壽子・山崎雅之・村上雅史（パナソニック）・占部継一郎・江利口浩二（京大） 		半導体集積回路の製造工程にはプラズマプロセスが広く用いられている．プラズマ処理中には入射イオンによるダメージにより被加工... [more] IST2021-9
pp.5-8
IST 2019-09-20
13:15		 東京 機械振興会館 画素単位の3次元集積化技術を用いたリニア広ダイナミックレンジ出力デジタル画素イメージセンサ
○後藤正英（NHK）・本田悠葵（NHK-ES）・渡部俊久・萩原　啓・難波正和・井口義則（NHK）・更屋拓哉・小林正治（東大）・日暮栄治（産総研）・年吉　洋・平本俊郎（東大） 		超高精細と高フレームレートとを両立する次世代のイメージセンサを目指して，画素並列信号処理を行う3次元構造イメージセンサの... [more] IST2019-47
pp.17-20
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