| 研究会 |
発表日時 |
開催地 |
タイトル・著者 |
抄録 |
資料番号 |
IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2023-06-08
15:25 |
宮城 |
東北大（通研）
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
高磁化Co基超常磁性グラニュラー薄膜の実現に向けた反応性パルスDCスパッタリング成膜法による非磁性酸・窒化物マトリックス用薄膜の作製
小林拓海・小野龍太郎・江川元太・○吉村 哲（秋田大） |
ゼロ磁界の検出や全方位磁界の検出が可能な新機能磁気センサーなどの新しい磁気デバイスの創製を可能にし得る，高い磁化を有する... [more] |
MMS2023-35
pp.1-8 |
IDY, SID-JC
(共催) |
2023-03-17
16:20 |
ONLINE |
オンライン（Zoom） |
［招待講演］酸化ニオブの薄膜干渉を利用した可視光下では見えないデジタル情報の形成
○前田秀一・深見哲弘・山嵜海輝（東海大） |
人間の目には見えない情報に意味があるであろうか．実は，見えないからこその利点がいくつもある．但し，ここでいう "見えない... [more] |
IDY2023-23
pp.45-48 |
IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2022-06-10
14:45 |
宮城 |
東北大（通研）
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
(Bi1-xBax)(Fe1-yCoy)O3強磁性・強誘電薄膜における飽和磁化・垂直磁気異方性・磁気Kerr効果に及ぼすCo置換量の影響とその起源に関する検討
尾関拓海・江川元太・○吉村 哲（秋田大） |
電界印加での磁化反転が可能な，超低消費電力型の次々世代磁気メモリや空間光変調素子の実現を目指して，飽和磁化，垂直磁気異方... [more] |
MMS2022-40
pp.45-51 |
IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2021-10-08
13:00 |
ONLINE |
オンライン開催 |
Fe-Co合金の単結晶薄膜および多結晶厚膜の構造と磁歪特性
○中村優太・明田俊祐・近藤 輝・大竹 充・川井哲郎・二本正昭（横浜国大）・桐野文良（東京藝術大）・稲葉信幸（山形大） |
大きな磁歪を示すFe-Co合金は磁歪式振動発電デバイスへの応用に向けて注目されている．本研究では，磁歪の基本特性を調べる... [more] |
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IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2021-10-08
13:25 |
ONLINE |
オンライン開催 |
Fe-N薄膜におけるγ'相の形成と磁歪
○前田悠良・今村光佑・大竹 充・川井哲郎・二本正昭（横浜国大）・桐野文良（東京藝術大）・稲葉信幸（山形大） |
反応性スパッタリング法によりMgO単結晶基板上にFe-N薄膜を形成し，基板温度がγ’-Fe4N相の形成に及ぼす影響につい... [more] |
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SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID
(連催) [詳細] |
2021-07-30
15:20 |
ONLINE |
オンライン開催（ZOOM） |
［依頼講演］LTPS-TFT技術と有機光検出器を用いたイメージャ
○北村彩斗・中村 卓・加藤博文・木村裕之・瀧本昭雄（ジャパンディスプレイ）・横田知之・染谷隆夫（東大） |
プラスチック基板上に形成された低温ポリシリコン薄膜トランジスタ(LTPS-TFT)と有機光検出器(OPD)を用いて，可視... [more] |
IDY2021-21
pp.21-24 |
IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2021-06-10
16:15 |
宮城 |
東北大通研
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
(Bi,La)(Fe1-xCox)O3強磁性・強誘電薄膜における垂直磁気異方性と磁気Kerr効果のCo置換量依存性
○尾関拓海・山本大地・江川元太・吉村 哲（秋田大） |
強磁性・強誘電材料を次世代磁気記録デバイスである磁性細線メモリの記録素子へ応用するには高い飽和磁化と垂直磁気異方性が必要... [more] |
MMS2021-31
pp.29-34 |
SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID
(連催) [詳細] |
2020-10-16
13:55 |
ONLINE |
オンライン開催（ZOOM） |
［依頼講演］次世代フレキシブルデバイス向け5µm厚超薄膜光学等方性フィルム
○木下博貴・大橋健寛・古屋拓己・永縄智史（リンテック） |
フレキシブルディスプレイ向けの5µm厚の超薄膜低位相差フィルムついて報告する．当フィルムは，1.0nmの低リタデーション... [more] |
IDY2020-33
pp.9-12 |
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-23
13:05 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［ポスター講演］c面サファイアおよびSi (111)基板上への六方晶BN薄膜のCVD成長
○名嘉眞朝泰・松下一貴・渡邊泰良・小南裕子・原 和彦（静岡大） |
BCl3とNH3を原料とする減圧化学気相法（CVD）を用いて、c面サファイアおよびSi (111)基板上へ六方晶窒化ホウ... [more] |
IDY2020-2
pp.1-4 |
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-23
13:55 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［ポスター講演］pnヘテロ界面構造制御による有機薄膜太陽電池の発電効率改善に関する研究
○小木曽恭平・飯村靖文（東京農工大） |
有機薄膜太陽電池(OPV)は、pnヘテロ界面面積が増えるほど発電効率が向上することが分かっている。本研究では、pnヘテロ... [more] |
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IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-23
15:15 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［依頼講演］原子状水素を用いた表面処理技術の半導体分野への応用
○部家 彰（兵庫県立大） |
水素ガスを加熱金属線で分解し生成した原子状水素を用いた表面処理技術（原子状水素アニール（AHA））の半導体分野への応用に... [more] |
IDY2020-13
pp.67-72 |
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-24
10:10 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［ポスター講演］熱拡散により作製した深紫外発光ZnAl2O4薄膜の膜質評価
○今川海斗・園田直樹・小南裕子・原 和彦（静岡大） |
スパッタリング法により、サファイア基板上にZnO膜を堆積させ、熱拡散によりZnAl2O4薄膜を作製した。電子線励起発光測... [more] |
IDY2020-16
pp.81-84 |
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-24
10:55 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［ポスター講演］導電性三元硫化物・酸化物蛍光体薄膜を用いた電流注入型発光素子
○辻森和樹・古賀峻丞・石垣 雅・大観光徳（鳥取大） |
本研究では CuAlS_2:Mn及び ZnGa_2O_4:Cr多結晶薄膜を用いた電流注入型発光素子の作製を 検討した 。... [more] |
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IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2020-01-24
11:10 |
鳥取 |
鳥取大鳥取キャンパス |
［ポスター講演］低温形成した陽極酸化アルミナ絶縁膜の膜物性評価とそのデバイス応用
○河野守哉・森 海・是友大地・古田 守（高知工科大） |
フレキシブル薄膜トランジスタ(TFT)のゲート絶縁膜応用を目的とし、陽極酸化により低温形成した酸化アルミナ(Al2O3)... [more] |
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IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細] |
2019-12-24
14:05 |
奈良 |
奈良先端大(物質領域 大講義室） |
Al2O3絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT
○服部一輝・谷野健太・松田時宜・木村 睦（龍谷大）・川原村敏幸・劉 麗（高知工科大） |
絶縁体層としてAl2O3膜をミストCVD法 (mist CVD) により作製し，Al2O3膜の有無によるGa-Sn-O薄... [more] |
IDY2019-70
pp.9-12 |
IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細] |
2019-12-24
14:45 |
奈良 |
奈良先端大(物質領域 大講義室） |
薄膜デバイスを用いた人工網膜の生体外実験
○豊田航平・冨岡圭佑・三澤慶悟・内藤直矢・木村 睦（龍谷大） |
私たちは薄膜トランジスタ（TFT）および薄膜フォトトランジスタ（TFPT）を用いた人工網膜を開発した．薄膜デバイスで作製... [more] |
IDY2019-71
pp.17-20 |
IEICE-MRIS, MMS
(連催) |
2019-06-14
09:15 |
宮城 |
東北大学 |
［招待講演］BiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の記録・映像デバイス応用への試み ～ 薄膜の高品位作製および材料探索から機能検証まで ～
○吉村 哲・クパン ムヌサミー（秋田大） |
超低消費電力・超大容量の記録デバイス用次々世代磁気メモリや，超低消費電力・高解像度の映像デバイス用次々世代光変調素子，な... [more] |
MMS2019-50
pp.37-43 |
IST, ME
(共催)
IEICE-BioX
(連催) [詳細] |
2019-06-06
14:00 |
石川 |
金沢大学 サテライトプラザ |
有機薄膜と固体撮像素子の積層化による高空間解像度撮像
○築村豪輝（東京理科大）・杉村大輔（津田塾大）・浜本隆之（東京理科大） |
本稿では，有機薄膜撮像素子及び固体撮像素子を積層化したセンサ用いた撮像方式と再構成手法を提案する.有機薄膜撮像素子は，特... [more] |
IST2019-25 ME2019-73
pp.9-12 |
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細] |
2019-01-25
09:55 |
鹿児島 |
鹿児島大学 稲盛会館 |
［ポスター講演］CuAlS2:Mn蛍光体薄膜を用いた電流注入型発光素子 ～ SiO2バリア層による下地電極/発光層間の界面拡散の抑制 ～
○植田翔伍・辻森和樹・石垣 雅・大観光徳（鳥取大） |
本研究ではCuAlS2:Mn多結晶蛍光体薄膜を用いた赤色発光素子の作製を目指す．CuAlS2:Mn薄膜は基板温度600℃... [more] |
IDY2019-17
pp.81-84 |
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細] |
2018-12-25
11:45 |
京都 |
龍谷大学 響都ホール 校友会館 |
ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
○滝下雄太・杉崎澄夫（龍谷大）・是友大地・曲 勇作・古田 守（高知工科大）・松田時宜・木村 睦（龍谷大） |
非真空プロセスであるミストCVD法により，レアメタルフリーなGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し，それを用いたデバイスを... [more] |
IDY2018-57
pp.13-16 |