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掲載 予定 | 題 目 | 発表社 | 情報源 | キーポイント | 分類 番号 |
2018年 0月号 | 白色中性子線で立体像 | 名工大 | 日刊工業新聞 (2017年9月19日PP.21) | 一度に100波長程度の光と物体波の干渉パターンを測定 白色中性子線で物体の立体像を記録できるホログラフィ | 430 |
2017年10月号 | パターン投影で測定 立体形状 直射日光下でも | 産総研 | 日刊工業新聞 (2017年7月19日PP.30) | スペクトラム拡散変調を応用 | 520 |
2017年 5月号 | 縦型トランジスタ積層 | 湘南工科大 | 日刊工業新聞 (2017年2月24日PP.25) | パターン面積10-20%小さく 製造コスト30%以下 | 220 260 |
2016年 2月号 | 特定パターンで出現する対象 高速検索AI開発 http://jpn.nec.com/press/201511/20151111_02.html | NEC | 日刊工業新聞 (2015年11月12日PP.23) | 大量の映像から 不自然に頻繁に現れる人物や複数の現場に共通に現れる人物といった 特定のパターンで出現する対象者を高速に検索 | 620 |
2015年 9月号 | フォトレジスト技術でフルカラーOLEDを作成 | 富士フイルム IMEC(ベルギー) | 日刊工業新聞 (2015年6月3日PP.11) | サブミクロンサイズのパターン形成,パターニング材料やプロセスを改良,画素密度640ppi | 250 |
2015年 5月号 | 半導体線幅20nmに対応するナノインプリントリソグラフィ用テンプレートを開発 http://www.dnp.co.jp/news/10107733_2482.html | 大日本印刷 | 日経産業新聞 (2015年2月20日PP.6) | 微細な回路パターンをテンプレートに作製 紫外線硬化樹脂を利用 | 160 |
2014年11月号 | 指の動き1/150秒ごと把握 | 筑波大 | 日経産業新聞 (2014年8月28日PP.10) | 撮影画像を分割 小型カメラで1/150s毎に撮影 72万個のパターンDBと照合し輪郭を最も近似した形を見つける | 620 520 |
2014年 9月号 | 常温大気中で金属接合 | 産総研 | 日刊工業新聞 (2014年6月27日PP.22) | MEMS 封止材の歪み防止 表面粗さ0.8nrmsの金メッキパターンを作成 | 160 260 |
2014年 7月号 | あらゆる表面をキーボードにする小型デバイス | 東大 | 日刊工業新聞 (2014年4月7日PP.1) | 手首に赤外線カメラとマイクを装着 厚さ3cm・縦横5cm 100種類以上の入力パターン 撮像速度145枚/s タップやスワイプの動き識別して入力可能 | 310 520 |
2014年 7月号 | 透明基板上にCNTで回路形成 | 名大 | 日経産業新聞 (2014年4月16日PP.10) | 配線パターンを形成したポリフッ化ビニリデン製シートを原版とする CNTを透明基板に転写 ITOの代替 樹脂シートに溝を作りCNTを振りかけて転写 | 160 260 |
2013年10月号 | 大容量HD向けナノパターンを高速生産 | 素形材センタ 明昌機工 東北大 | 日経産業新聞 (2013年7月11日PP.11) | 微細構造 レーザ光で加熱 φ25nmパターンを45nmピッチで作成 従来の15倍高速 | 230 |
2013年 4月号 | タッチパネルの屈折率調整 | 日本触媒 | 日経産業新聞 (2013年1月10日PP.1) | 電極パターンが見えないようにする ジルコニアコーティング | 150 250 |
2013年 3月号 | EUV利用のフォトマスク欠陥検査装置 | 東北大 EUVL基盤開発センター | 日経産業新聞 (2012年12月19日PP.7) | 13.5nm波長のEUV光 解析能力30nm 16nm世代パターン観察に適用可能 | 160 360 |
2012年 5月号 | ビットパターンを応用したHD大容量化技術 | 東北大 日立 東芝 富士電機 | 日経産業新聞 (2012年2月24日PP.10) | 5Tb/in2 直径17nmの磁性粒子が規則的に並ぶ | 230 260 |
2012年 2月号 | 脳波の変化から補聴器の最大音量を推定 | パナソニック | 電波新聞 (2011年11月29日PP.2) | 各個人が許容できる音量の上限値を検査音に対する脳波分析により±5dBの高精度で求める 脳波変化パターンを分析 検査音の周波数を変化させる最適な刺激技術 | 620 |
2011年 4月号 | 薄型テレビの動画性能を定量的に評価 | APDC | 日刊工業新聞 (2011年1月27日PP.8) | IECで標準化をめざす 信号発生機でテレビに送り込んだパターンをカメラで読み取り測定 | 550 660 350 |
2011年 2月号 | 高分子の自己組織化を利用してHDD容量8倍 | 日立 東工大 京大 | 日経産業新聞 (2011年11月26日PP.10) | ビットパターンメディア 1in2あたり3.9兆個の微細な磁性粒子の集まりを作れる | 120 230 |
2010年11月号 | 立体映像にさわれるシステム | 産総研 | 日経産業新聞 (2010年8月26日PP.12) | 物体に触れた錯覚 振動パターンを制御 | 450 620 |
2009年11月号 | 金属ガラスで1Tbpi以上の磁気記録媒体の製造技術 | RIMCOF | 日刊工業新聞 (2009年8月6日PP.25) | 熱インプリント パターンドメディア サファイアにダイヤモンドライクカーボン(DLC)薄膜 25nm間隔太さ12nmのドットを形成した金型を作製 | 160 230 |
2009年 6月号 | 印刷技術で発光パターンを形成できるゲル状発光材料 | 大日本印刷 | 日刊工業新聞 (2009年3月27日PP.1) | ルテニウムを中心とした遷移金属錯体,シリカナノ粒子を混練,酸化還元反応による発光 AC3.3Vで200cd/m2の輝度 大気中で厚さ25μm以上の膜でも発光 | 120 |
2008年10月号 | 結像レンズを使わない電子顕微鏡 | 北大 日立 | 日刊工業新聞 (2008年7月30日PP.28) | TEMと同等の分解能 光の回折パターンを計算処理 SEM | 410 360 |
2008年 9月号 | 単層CNTで配線を作製する技術 | 九大 | 日経産業新聞 (2008年6月16日PP.17) | 高い導電性 幅0.5μmの細い線 縦横0.5μmの四角いパターン | 220 160 |
2008年 9月号 | 光を直角に曲げる光配線技術 | 物材機構 東北大 | 日刊工業新聞 (2008年6月7日PP.13) 日経産業新聞 (2008年6月2日PP.9) | 球の大きさにより分波器 Si基板に2μm間隔で刻んだパターン上に直径2μmのポリスチレン球 | 240 140 160 |
2008年 5月号 | センサで行動分析を行う『ライフ顕微鏡』 | 日立 | 日経産業新聞 (2008年2月4日PP.1) | 腕時計型と名札型 温度センサと加速度センサ 無線通信機能 分析された行動パターンと本人の自己評価を比較 行動パターンの改善策を提示 赤外線通信によるID識別 人間関係の分析 | 620 |
2008年 5月号 | 記録容量20倍の次世代HD | クレステック | 日経産業新聞 (2008年2月7日PP.1) | パターンドメディア 記録容量は1Tb/in2 直径6インチのSi基板上の感光性樹脂に電子ビームで同心円状に直径10nmの微小な穴を開ける | 230 160 |
2008年 5月号 | 最先端LSIパターン作製高速化 | クレステック 農工大 | 日経産業新聞 (2008年2月18日PP.10) | 配線幅40nm回路を10mm角に0.3sで作製 面電子源 | 160 |
2008年 2月号 | 記録容量20倍のHDD | 富士通 | 日経産業新聞 (2007年11月28日PP.1) | パターンドメディア 垂直磁気記録方式 記録密度4Tb/inch2超 酸化アルミ基板 | 160 230 |
2008年 1月号 | MRAM電流制御技術 | 高エネ機構 東大 | 日刊工業新聞 (2007年10月29日PP.21) | SrTiO3基板にμm寸法の(La Sr)MnO3の薄膜をパターン加工 Spring-8 ステップ方向に磁場をかけると単磁区構造になる | 120 160 230 |
2007年10月号 | 線幅30nm以下の半導体量産向けナノインプリント技術用の石英ガラスモールド試作 | HOYA | 日経産業新聞 (2007年7月19日PP.1) | 位相シフトマスク作成原理を応用 回路パターンの材料であるCrやレジストの中身・厚さ・処理方法を最適化 型を熱硬化樹脂に押し付け紫外線で転写 | 160 |
2007年 4月号 | デジカメの手ぶれ計測・評価システム | 電通大 | 日刊工業新聞 (2007年1月15日PP.20) | 画像におけるパターンの重なりのズレから手ぶれ軌跡を3軸に分けて検出 ぶれの程度を解析 | 310 320 660 |
2006年11月号 | 手書き文書電子化技術 | 日立 | 日刊工業新聞 (2006年8月31日PP.30) | デジタルペンとドットパターンが印刷された専用ノート 電子署名技術を応用 筆記者の特定や筆記時刻を記録 | 620 420 |
2006年 9月号 | 真皮で指紋認証 | サイレックステクノロジー | 日経産業新聞 (2006年6月21日PP.9) | 真皮指紋パターンを認証するセンサ 電波により指紋の凹凸を感知 | 210 |
2006年 7月号 | 液体でSiTFT | セイコーエプソン JSR | 朝日新聞 (2006年4月6日PP.3) 日刊工業新聞 (2006年4月6日PP.24) 日経産業新聞 (2006年4月7日PP.9) | HとSiを含む液体材料 回転塗布またはインクジェットで成膜 厚さ300nmのSi膜パターン シラン化合物 500℃前後で焼成 コスト半分 消費電力1/10程度 | 120 160 220 250 |
2006年 7月号 | 1TbitHDD向けパターン磁気記録技術 | 早大 | 日刊工業新聞 (2006年4月18日PP.33) | 湿式法 直径10nmの微細孔 直径2nmの有機シラン Co系合金 ドット径10~20nmの磁性ナノドットアレイ | 120 160 230 |
2006年 5月号 | 回路線幅29.9nmパターン生成 -深紫外線光リソグラフィ- | 米IBM JSR | 電波新聞 (2006年2月22日PP.3) 日経産業新聞 (2006年2月22日PP.3) | DUV193nm 光屈折率液侵技術 石英レンズや有機液体などの新素材 EUV(極紫外線)でなくArF対応ステッパの継続使用可能 独自開発のフォトレジスト | 120 160 |
2006年 4月号 | ペースト状ナノ粒子 -幅20μm配線可能に- | 大研化学工業 大阪市立工業研 | 日経産業新聞 (2006年1月1日PP.21) | AgとPdの合金ナノ粒子 直径5nm 樹脂と混ぜる スクリーン印刷 プラスチック基板に回路パターンを書く 加熱300℃で樹脂が分解 | 120 160 |
2006年 2月号 | ナノ構造の人工金薄膜 -旋光特性が自然界の500倍- | 東大 | 日刊工業新聞 (2005年11月14日PP.28) | 鏡面非対称のキラルパターン 25nm厚の金薄膜に500nmの卍型パターンを周期的に構成 可視光の偏光は1.5°回転 | 160 250 120 |
2005年 9月号 | 超高密度垂直磁気媒体制作技術 -陽極酸化アルミナナノホールを1次元配列- | 山形富士通 富士通研 KAST | 日刊工業新聞 (2005年6月27日PP.28) | Alの表面をナノインプリント技術で規則的な凹凸をつけて陽極酸化 凹部にナノホール ナノホールにCoを電気メッキで充填 ピッチ25nmで1Tb/sq inch可能 パターンドメディア垂直磁気記録層 | 120 160 230 |
2005年 2月号 | ホログラム光ディスク高速読取り技術 | 理科大 | 日経産業新聞 (2004年11月29日PP.9) | 2次元パターンデータの四隅に印を付けて位置検出を250倍に高速化 データ検出時間14μs | 430 |
2004年 1月号 | 暗号カギの盗難防止 -電波の揺らぎを活用- | ATR 同志社大 | 日刊工業新聞 (2003年10月31日PP.33) 日経産業新聞 (2003年10月31日PP.9) | 親機アンテナが電波方向を高速変更 電波の揺らぎのパターンで秘密カギを生成し共有 | 440 |
2003年10月号 | 3次元「ナノ鋳型」新製法 -DVD容量が数十倍- | 東京理科大 | 日刊工業新聞 (2003年7月8日PP.1) | Si基板に水ガラスを均一に塗布して焼き 水ガラスを固体化 パターンの幅は125nm | 160 |
2006年11月号 | 手書き文書電子化技術 | 日立 | 日刊工業新聞 (2006年8月31日PP.30) | デジタルペンとドットパターンが印刷された専用ノート 電子署名技術を応用 筆記者の特定や筆記時刻を記録 | 620 420 |
2006年 9月号 | 真皮で指紋認証 | サイレックステクノロジー | 日経産業新聞 (2006年6月21日PP.9) | 真皮指紋パターンを認証するセンサ 電波により指紋の凹凸を感知 | 210 |
2006年 7月号 | 液体でSiTFT | セイコーエプソン JSR | 朝日新聞 (2006年4月6日PP.3) 日刊工業新聞 (2006年4月6日PP.24) 日経産業新聞 (2006年4月7日PP.9) | HとSiを含む液体材料 回転塗布またはインクジェットで成膜 厚さ300nmのSi膜パターン シラン化合物 500℃前後で焼成 コスト半分 消費電力1/10程度 | 120 160 220 250 |
2006年 7月号 | 1TbitHDD向けパターン磁気記録技術 | 早大 | 日刊工業新聞 (2006年4月18日PP.33) | 湿式法 直径10nmの微細孔 直径2nmの有機シラン Co系合金 ドット径10~20nmの磁性ナノドットアレイ | 120 160 230 |
2006年 5月号 | 回路線幅29.9nmパターン生成 -深紫外線光リソグラフィ- | 米IBM JSR | 電波新聞 (2006年2月22日PP.3) 日経産業新聞 (2006年2月22日PP.3) | DUV193nm 光屈折率液侵技術 石英レンズや有機液体などの新素材 EUV(極紫外線)でなくArF対応ステッパの継続使用可能 独自開発のフォトレジスト | 120 160 |
2006年 4月号 | ペースト状ナノ粒子 -幅20μm配線可能に- | 大研化学工業 大阪市立工業研 | 日経産業新聞 (2006年1月1日PP.21) | AgとPdの合金ナノ粒子 直径5nm 樹脂と混ぜる スクリーン印刷 プラスチック基板に回路パターンを書く 加熱300℃で樹脂が分解 | 120 160 |
2003年 6月号 | 面状光スイッチ用いて超高速光通信のジッタスキューを低減 | 通信総研 FESTA | 電波新聞 (2003年3月15日PP.2) | 有機色素薄膜 面状光スイッチ ジッタスキュー空間パターンとして一括検出 | 240 |
2002年11月号 | 高生産性のナノ加工技術 -インプリントで10nm級- | 姫路工大 産総研 NEC NTT 明昌機工 | 日刊工業新聞 (2002年8月8日PP.4) 日刊工業新聞 (2002年8月14日PP.1) | 室温ナノインプリント技術 モールドのパターン一括転写 基板上のポリマー薄膜 | 160 |
2002年 8月号 | 繊維混ぜ込み偽造防止 | ニッパツ | 日本経済新聞 (2002年5月3日PP.13) | 磁気繊維 ICカード 磁気パターンとIC内の情報を照合 | 230 260 430 520 |
2002年 8月号 | 大容量磁気記録技術 -微粒子1個に現在の25倍- | 東芝 | 日本経済新聞 (2002年5月17日PP.17) | パターンドメディア | 230 |
2002年 7月号 | ナノ精度で一括製造する微細加工技術と製造装置 - 材料問わず3次元加工 - | 富士ゼロックス | 日刊工業新聞 (2002年4月2日PP.1) | 断面パターン薄膜 Arビーム清浄 高精度圧接 | 260 |
2001年10月号 | 指紋照器 -企業に拡販- | ソニー | 日経産業新聞 (2001年7月16日PP.7) | パターンマッチング 公開かぎ基板に対応 | 320 620 |
2001年10月号 | 新型露光装置 -フォトマスクを使わずに露光- | ソニー 熊本大 | 日経産業新聞 (2001年7月24日PP.1) | パターン幅5μm 突装基板露光装置 | 160 |
2001年10月号 | ガラス内部に回折格子形成 | 京大 | 日刊工業新聞 (2001年7月31日PP.1) | fs秒レーザ 干渉パターン 石英ガラスの光回折格子 回折効率70% 分波器 | 240 |
2000年 7月号 | 次世代無線通信用アンテナ -電波送受信方向自由に- | ATR | 日経産業新聞 (2000年5月12日PP.1) | 電波制御導波器アレイアンテナ アドホックネットワーク アレイアンテナ 小形アンテナ 360度送受信 放射パターン可変 周波数1GHz | 340 |
2000年 2月号 | 単電子トランジスタの論理回路 -消費電力10万分の1- | NTT | 日経産業新聞 (1999年12月10日PP.5) 日刊工業新聞 (1999年12月10日PP.7) 電波タイムズ (1999年12月17日PP.1) | 単一電子トランジスタ(SET) 論理回路 パターン依存酸化法 V-PADOX法 超低消費電力 1/100,000 Si熱酸化手法 インバータ回路 低温動作:-243℃ | 220 160 |
2000年 1月号 | 手のしぐさを認識 | 電通大 東大 | 日経産業新聞 (1999年11月2日PP.5) | 画像処理 パターン登録 2台のビデオカメラ ニューラルネット | 520 620 |
1999年12月号 | 微粒子1個に1ビット記録-配列パターンに垂直磁化- | 日立 東北大 | 日刊工業新聞 (1999年10月13日PP.7) | 垂直磁化 円柱状磁性微粒子 パターンドメディア MFM 30Gb/inch2 80nmφ44nmHの円柱状微粒子 150nmピッチ | 130 230 160 |
1999年 7月号 | LSI回路パターン用微細加工技術 -超臨界流体使い洗浄- | NTT | 日経産業新聞 (1999年5月21日PP.5) | 超臨界流体 LSI洗浄 液化二酸化炭素 | 160 |
1999年 6月号 | 映像の動きで特定の場面を検索する技術 -スポーツ分析などに応用- | 郵政省 日本IBM | 日経産業新聞 (1999年4月7日PP.3) 日本経済新聞 (1999年4月7日PP.13) 電波タイムズ (1999年4月12日PP.1) | 映像検索 画像検索 場面検索 映像コンテンツ検索技術 オブジェクト 動作パターン MPEGー7 | 620 520 |
1999年 2月号 | 0.1μmレベルのホールパターン技術 | 三菱電機 | 日経産業新聞 (1998年12月15日PP.1) | RELACS剤 酸成分の拡散 | 160 |
1999年 1月号 | 光子の波動型用いた大容量の情報伝達技術 | ニコン 米カリフォルニア工科大 | 日本経済新聞 (1998年11月28日PP.13) | 波動パターン 1b以上 暗号かぎ 基礎実験 1000~10000倍 | 440 |
1998年12月号 | 立体画像作製ソフト -1枚の写真から制作- | 電力中央研 | 日本経済新聞 (1998年10月19日PP.19) | 形態推定ソフト 線の交差パターン 奥行情報 | 620 520 |
1998年 9月号 | 電子線(EB)露光用ネガレジスト -7nmの最小パターン形成可能- | NEC | 日刊工業新聞 (1998年7月10日PP.4) | アルファメチルスチレン EB用 | 160 |
1998年 4月号 | 画像圧縮用ソフト -動画像 高画質で送受信- | NTT | 日経産業新聞 (1998年2月6日PP.5) | MPEG-4 画像圧縮用ソフト 画像圧縮 ソフトウェア データ量H.261の1/2 カメラ操作を予測 カメラ操作にパターン番号 | 520 620 540 |
1997年10月号 | 昆虫の動きをまねた高速の画像処理ソフトウェア | 電通大 | 日経産業新聞 (1997年8月22日PP.5) | パターン認識 生物的画像抽出法 | 520 620 |
1995年11月号 | 線幅0.08μmの回路パターン | NTT | 日経産業新聞 (1995年9月14日PP.5) | シンクロトロン放射光(SR) 超高速素子 | 160 |
1995年 9月号 | 幅0.1μm回路パターン形成技術 | 東芝 | 日経産業新聞 (1995年7月21日PP.5) | マスクの低コントラスト化で回折現象を低減 マスクウェハ15μm間隔で0.09μmパターン | 160 |
1995年 5月号 | パターン認識モデル -特定対象物を立体的に画像認識- | NEC | 日刊工業新聞 (1995年3月10日PP.6) | パターン認識モデル パターン認識 | 320 540 |
1994年12月号 | 人工網膜チップで文字認識 -文字認識率99.99%- | 三菱電機 | 日経産業新聞 (1994年10月24日PP.5) | 人工網膜チップ 文字認識 認識率99.99% 感度可変受光素子 高速:3μs スピード1万倍 ニューラルネットワーク パターン認識 パターンマッチング 高精度 | 520 210 220 |
1994年11月号 | 走査型電子線露光 -初の5nmパターン形成- | NEC | 日刊工業新聞 (1994年9月13日PP.7) | 無機レジスト法 量子効果素子 イオンビームスパッタ法 | 120 160 |
1994年 9月号 | 光露光で0.13μmレジストパターン実現 | 日立製作所 | 日刊工業新聞 (1994年7月14日PP.7) | 4GbDRAM 0.13μm リソグラフィ 高解像度 LSI | 230 160 |
1994年 2月号 | 超微細の半導体回路パターン -作成技術を開発- | 電総研 | 日刊工業新聞 (1993年12月14日PP.17) | 回路線幅0.1μm エッチング工程不要 | 260 |
1993年 8月号 | X線マスクによる極微細パターン加工 | ソルテック 日立製作所 | 日経産業新聞 (1993年6月17日PP.5) 日刊工業新聞 (1993年6月17日PP.9) | 微細加工 SR光源 | 160 |
1993年 7月号 | 光ニューラルネットワーク -本格的ロボットの目実現へ道- | 日立製作所(欧) | 電波新聞 (1993年5月14日PP.2) 日経産業新聞 (1993年5月14日PP.5) 日刊工業新聞 (1993年5月14日PP.6) | ニューラルネットワーク 光ニューロ パターン認識 ロボットの目 | 520 220 |
1993年 2月号 | 1GbDRAM用0.2μm以下の超微細パターン形成技術 | 松下電器産業 | 電波新聞 (1992年12月15日PP.1) 日経産業新聞 (1992年12月15日PP.5) 日刊工業新聞 (1992年12月15日PP.9) 電波新聞ハイテクノロジ (1992年12月17日PP.1) | ArFエキシマレーザ 1GbDRAM 微細加工技術 | 260 230 |
1993年 1月号 | 大脳の視覚処理 | 新技術開発事業団 理化学研究所 | 日本経済新聞 (1992年11月26日PP.13) | 2000種のパターン | 620 |
1992年 8月号 | レーザリソグラフィ技術 -0.25μmパターン- | 松下電器産業 | 電波新聞 (1992年6月5日PP.1) | 次世代LSI | 160 |
1992年 7月号 | X線リソグラフィ用マスク -最小線幅0.2μmで微細パターン描写- | NTTアドバンステクノロジ(NTEC) | 日刊工業新聞 (1992年5月13日PP.9) | X線リソグラフィ用マスク 線幅0.2μm | 160 |
1992年 3月号 | 視覚認識装置 -背景分離可能なホロビジョン- | 松下電器産業 東大 | 日経産業新聞 (1992年1月16日PP.5) | 視覚 パターン認識 ニューラルネット | 520 230 |
1991年 9月号 | バイオ素子を超LSI化 | 沖電気 | 日本工業新聞 (1991年7月3日PP.1) | 新素子 1mm殻に25万個集積 バイオ素子 リポゾーム アピジン ピオチン法 パターン認識素子 6.25M素子/mm2 | 120 220 |
1991年 8月号 | エキシマレーザ使ったマスクパターン転写加工 -加工速度12倍向上- | 三菱電機 | 電波新聞 (1991年6月11日PP.1) | マスクパターン転写加工 エキシマレーザ 加工速度12倍向上 高反射マスクと高反射ミラー | 160 |