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2013 年 12 月発表の注目記事
学会誌に掲載された記事は青色で表示しています。

掲載
予定
題 目発表社情報源キーポイント 分類
番号
2014年 3月号単層CNT量産

・14と合わせる
日本ゼオン日刊工業新聞
(2013年12月2日PP.1)
次世代炭素材料CNTの商業生産,コスト従来比1/1000,スーパーグローブ法を利用,NECOと共同で純度99%以上の単層CNTの連続生産を可能に120
160
2014年 3月号バナジウム・リン・窒素化合物4.2Kで超電導状態東大日刊工業新聞
(2013年12月3日PP.19)
アンチポストペブスカイトという結晶構造,転移温度が化合物によって変化するメカニズムには結晶構造の2次元性が鍵120
2014年 3月号倍速で単結晶成長産総研
太平洋セメント
屋久島電工
日刊工業新聞
(2013年12月4日PP.17)
昇華再結晶法を利用,結晶成長速度は最大2.2mm/h120
2014年 3月号高速・低電力で1億回書き換え可能な相変化素子超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)
筑波大
日刊工業新聞
(2013年12月11日PP.20)
超格子状の化合物を積層
低温で溶かさないで記録
230
2014年 3月号低消費電力の書き換え可能な20nm素子東北大
京大
日経産業新聞
(2013年12月11日PP.6)
日刊工業新聞
(2013年12月27日PP.13)
線幅20nm
磁性体にCo・Fe・Bを混ぜたものを使用
書き換え消費電力が数フェムトジュール
230
2014年 3月号グラフェンで幅20nmの微細配線産総研日刊工業新聞
(2013年12月13日PP.27)
電気抵抗率は最低4.1μmΩcm
断線しにくい
サファイア基板上に約1000℃7-15層のグラフェンを合成
銅配線なみの抵抗率
160
120
2014年 3月号3次元LSI向け多結晶Geトランジスタ産総研日刊工業新聞
(2013年12月18日PP.21)
GeのCMOS化
n型MOSFET
500℃以下で形成
p型n型の両極性
多結晶Geトランジスタ
Siの3倍の電流駆動能力
220
2014年 3月号より低電圧で動作するトンネルFET東大日経産業新聞
(2013年12月18日PP.6)
日刊工業新聞
(2013年12月27日PP.13)
Znの拡散による不純物分布を持つ新型接合技術
動作電圧0.3V
接合部にZn拡散
従来の1/3の電圧で動作
220
260
120
2014年 3月号光ファイバー1本で伝送速度100Gbps
4波長集積型光通信用送信モジュール
三菱電機電波新聞
(2013年12月19日PP.3)
高速・大容量通信の光伝送装置240
2014年 3月号計測で応用できる画像合成を高精度にデータ処理する技術京大日刊工業新聞
(2013年12月19日PP.1)
データステッチング620
2014年 3月号指で肌を押して機器操作慶応大日経産業新聞
(2013年12月20日PP.9)
赤外線センサ
腕輪型
マウスを代替
310
2014年 3月号省電力次世代メモリー「IGZO」で1/10に半導体エネ研日本経済新聞
(2013年12月24日PP.11)
IGZO230
2014年 3月号有機薄膜太陽電池の発電動作解明神戸大
JST
日経産業新聞
(2013年12月24日PP.9)
マイクロ波で電子と正孔が生じる向きを調べる250
2014年 3月号単層CNTの量産技術

・1と合わせる
産総研
名城ナノカーボン
日刊工業新聞
(2013年12月26日PP.15)
φ1〜4nm
「eDIPS法」
従来の100倍速
160
120
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