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講演抄録/キーワード
講演名 2011-01-28 13:00
ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 ~ スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て ~
王 大鵬川原村敏幸李 朝陽平尾 孝高知工大
抄録 (和) 非常に効率の良い蛍光体の開発は、ディスプレイ産業界の発展につながる。蛍光体は、現在粉末蛍光体が主体であり、保持の問題やマイクロサイズでのムラ、環境耐性などに問題があるいわれている。そこで我々は、上記問題を解決できる薄膜蛍光体に注目し、酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体の開発をおこなった。これまでの開発により、ガラス基板上に直接作製する技術を開発し、昨年、世界最高レベルの発光強度の酸化亜鉛薄膜蛍光体の作製に成功した。今回は、100 mmガラス基板上に直接成長した酸化亜鉛薄膜蛍光体のパターン化に成功したので、作製方法や、薄膜蛍光体の特性等について報告する。 
(英) The development of new and high efficient phosphor has been an important technology for the display industry. In order to overcome the remained problems of powder phosphor and lower the fabrication cost, we developed a novel technique for fabricating ZnO thin film phosphor on the glass substrate directly at the low temperature. This fabricated ZnO thin film phosphor has the promising features including higher coherency, uniformity, flatness regarding to the disadvantage of the power phosphor. Particularly, the ZnO thin film phosphor, showing high luminance of blue-green, was easily and precisely patterned on large area(Ф100mm) by wet etching method.
キーワード (和) 薄膜蛍光体 / 酸化亜鉛 / ガラス上 / 大面積基板 / パターン化 / 還元雰囲気処理 / 低温 /  
(英) thin films phosphor / zinc oxide / on glass / large-area / patterned / reduction treatment / low temperature /  
文献情報 映情学技報, vol. 35, no. 4, IDY2011-1, pp. 1-3, 2011年1月.
資料番号 IDY2011-1 
発行日 2011-01-21 (IDY) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IDY IEICE-EID IEE-EDD IEIJ-OMD  
開催期間 2011-01-28 - 2011-01-29 
開催地(和) 高知工科大学 
開催地(英) Kochi University of Technology 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ 
テーマ(英) Emissive/Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2011-01-IDY-EID-EDD-OMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 
サブタイトル(和) スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て 
タイトル(英) Precisely patterned Zinc Oxide (ZnO) thin film phosphor fabricated directly on glass substrate 
サブタイトル(英) after thin film fabrication with sputtering, wet etching, annealing 
キーワード(1)(和/英) 薄膜蛍光体 / thin films phosphor  
キーワード(2)(和/英) 酸化亜鉛 / zinc oxide  
キーワード(3)(和/英) ガラス上 / on glass  
キーワード(4)(和/英) 大面積基板 / large-area  
キーワード(5)(和/英) パターン化 / patterned  
キーワード(6)(和/英) 還元雰囲気処理 / reduction treatment  
キーワード(7)(和/英) 低温 / low temperature  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 王 大鵬 / Dapeng Wang / ワン ダーバン
第1著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 川原村 敏幸 / Toshiyuki Kawaharamura / カワハラムラ トシユキ
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 李 朝陽 / Chaoyang Li / リ チョウヨウ
第3著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 平尾 孝 / Takashi Hirao / ヒラオ タカシ
第4著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Tech.)
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講演者
発表日時 2011-01-28 13:00:00 
発表時間
申込先研究会 IDY 
資料番号 ITE-IDY2011-1 
巻番号(vol) ITE-35 
号番号(no) no.4 
ページ範囲 pp.1-3 
ページ数 ITE-3 
発行日 ITE-IDY-2011-01-21 


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