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講演抄録/キーワード
講演名 2011-01-29 09:55
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
松田時宜古田 守平松孝浩古田 寛平尾 孝高知工大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970

研究会情報
研究会 IDY IEICE-EID IEE-EDD IEIJ-OMD  
開催期間 2011-01-28 - 2011-01-29 
開催地(和) 高知工科大学 
開催地(英) Kochi University of Technology 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ 
テーマ(英) Emissive/Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2011-01-EID-IDY-EDD-OMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Deposition of Insulator Film with New Facing Electrodes CVD for Low Temperature Devices 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松田 時宜 / Tokiyoshi Matsuda / マツダ トキヨシ
第1著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 古田 守 / Mamoru Furuta / ふるた まもる
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 平松 孝浩 / Takahiro Hiramatsu / ひらまつ たかひろ
第3著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 古田 寛 / Hiroshi Furuta / ふるた ひろし
第4著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 平尾 孝 / Takashi Hirao / ひらお たかし
第5著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
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講演者
発表日時 2011-01-29 09:55:00 
発表時間
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-35 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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