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講演抄録／キーワード
講演名 2012-01-20 11:30
Co/Cr2O3薄膜の垂直交換バイアスに対するPtスペーサ層の影響
○武智雄一郎・納富隼人・及川博人・藤田敏章・白土　優・中谷亮一（阪大工）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 MMS CE IEICE-MRIS  
開催期間 2012-01-19 - 2012-01-20 
開催地（和） パナソニック企業年金基金 松心会館 
開催地（英）  
テーマ（和） 映像情報機器および一般（映像情報メディア学会関西支部共催） 
テーマ（英）  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2012-01-MMS-CE-MR 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） Co/Cr2O3薄膜の垂直交換バイアスに対するPtスペーサ層の影響 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Influence of Pt spacer layer on perpendicular exchange bias in Co/Cr2O3 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 武智 雄一郎 / Yuichiro Takechi / タケチ ユウイチロウ
第1著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 納富 隼人 / Hyato Noutomi / ノウトミ ハヤト
第2著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 及川 博人 / Hiroto Oikawa / オイカワ ヒロト
第3著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 藤田 敏章 / Toshiaki Fujita / フジタ トシアキ
第4著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 白土 優 / Yu Shiratsuchi / シラツチ ユウ
第5著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 中谷 亮一 / Ryoichi Nakatani / ナカタニ リョウイチ
第6著者 所属（和/英） 大阪大学大学院工学研究科 (略称： 阪大工)
Graduate School of Engineering, Osaka University (略称： Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2012-01-20 11:30:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号（vol） vol.36 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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