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講演抄録/キーワード
講演名
2014-07-17 13:25
電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化
○
萩原弘規
・
ヴォダルツ ジギー
・
大谷智博
・
西家大貴
(
早大
)・
Giovanni Zangari
(
UVA
)・
本間敬之
(
早大
)
抄録
(和)
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS MMS
開催期間
2014-07-17 - 2014-07-17
開催地(和)
東京工業大学
開催地(英)
Tokyo Institute of Technology
テーマ(和)
固体メモリ・媒体,一般
テーマ(英)
Solid State Memory, Media, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2014-07-MR-MMS
本文の言語
日本語
タイトル(和)
電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Fabrication of ultra-high density nanodot arrays with high coercivity based on analysis of initial deposition process
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
萩原 弘規
/
Hiroki Hagiwara
/
ハギワラ ヒロキ
第1著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
ヴォダルツ ジギー
/
Siggi Wodarz
/
ヴォダルツ ジギー
第2著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
大谷 智博
/
Tomohiro Otani
/
オオタニ トモヒロ
第3著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
西家 大貴
/
Daiki Nishiie
/
ニシイエ ダイキ
第4著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
Giovanni Zangari
/
Giovanni Zangari
/
第5著者 所属(和/英)
ヴァージニア大学
(略称:
UVA
)
University of Virginia
(略称:
UVA
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
本間 敬之
/
Takayuki Homma
/
ホンマ タカユキ
第6著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2014-07-17 13:25:00
発表時間
25分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号(vol)
vol.38
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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