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講演抄録/キーワード
講演名 2014-07-17 13:25
電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化
萩原弘規ヴォダルツ ジギー大谷智博西家大貴早大)・Giovanni ZangariUVA)・本間敬之早大
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2014-07-17 - 2014-07-17 
開催地(和) 東京工業大学 
開催地(英) Tokyo Institute of Technology 
テーマ(和) 固体メモリ・媒体,一般 
テーマ(英) Solid State Memory, Media, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2014-07-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of ultra-high density nanodot arrays with high coercivity based on analysis of initial deposition process 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 萩原 弘規 / Hiroki Hagiwara / ハギワラ ヒロキ
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) ヴォダルツ ジギー / Siggi Wodarz / ヴォダルツ ジギー
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大谷 智博 / Tomohiro Otani / オオタニ トモヒロ
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西家 大貴 / Daiki Nishiie / ニシイエ ダイキ
第4著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) Giovanni Zangari / Giovanni Zangari /
第5著者 所属(和/英) ヴァージニア大学 (略称: UVA)
University of Virginia (略称: UVA)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ
第6著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
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講演者
発表日時 2014-07-17 13:25:00 
発表時間 25 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-38 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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