| 研究会情報 |
| 研究会 |
IEICE-MRIS MMS |
| 開催期間 |
2014-10-02 - 2014-10-03 |
| 開催地（和） |
柏崎エネルギーホール、新潟 |
| 開催地（英） |
Kashiwazaki energy hall, Niigata |
| テーマ（和） |
ヘッド・スピントロニクス，一般 |
| テーマ（英） |
Recording Head, Spintronics, etc. |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IEICE-MRIS |
| 会議コード |
2014-10-MR-MMS |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
イオンビームアシストスパッタ法によるCo2MnSi薄膜の低温エピタキシャル成長 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Low temperature growth of epitaxial Co2MnSi films by ion-beam assisted sputtering |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
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| キーワード(2)（和/英） |
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| キーワード(3)（和/英） |
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| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
植田 研二 / Kenji Ueda / |
| 第1著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
浅野 秀文 / Hidefumi Asano / |
| 第2著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第3著者 所属（和/英） |
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| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第4著者 所属（和/英） |
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| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第5著者 所属（和/英） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 所属（和/英） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 所属（和/英） |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第8著者 所属（和/英） |
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| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第9著者 所属（和/英） |
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| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 所属（和/英） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 所属（和/英） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 所属（和/英） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 所属（和/英） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 所属（和/英） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 所属（和/英） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 所属（和/英） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 所属（和/英） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 所属（和/英） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 所属（和/英） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2014-10-02 15:50:00 |
| 発表時間 |
50分 |
| 申込先研究会 |
IEICE-MRIS |
| 資料番号 |
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| 巻番号（vol） |
vol.38 |
| 号番号（no） |
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| ページ範囲 |
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| ページ数 |
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| 発行日 |
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