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講演抄録/キーワード
講演名
2015-07-10 15:20
パルス電析法を用いたFePtナノドットアレイの高保磁力化の検討
○
西家大貴
・
ヴォダルツ ジギー
・
謝 承達
・
齋藤 学
・
阿部純也
(
早大
)・
Giovanni Zangari
(
UVA
)・
本間敬之
(
早大
)
抄録
(和)
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS MMS
開催期間
2015-07-10 - 2015-07-10
開催地(和)
早稲田大学
開催地(英)
Waseda Univ.
テーマ(和)
固体メモリ・媒体+一般
テーマ(英)
Solid State Memory, Media, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2015-07-MR-MMS
本文の言語
日本語
タイトル(和)
パルス電析法を用いたFePtナノドットアレイの高保磁力化の検討
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Fabrication of FePt Nanodot Arrays with High Coercivity by Pulse Electrodeposition
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
西家 大貴
/
Daiki Nishiie
/
ニシイエ ダイキ
第1著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
ヴォダルツ ジギー
/
Siggi Wodarz
/
ヴォダルツ ジギー
第2著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
謝 承達
/
Chen Tar Hsieh
/
シャ ショウタツ
第3著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
齋藤 学
/
Manabu Saito
/
サイトウ マナブ
第4著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
阿部 純也
/
Junya Abe
/
アベ ジュンヤ
第5著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
Giovanni Zangari
/
Giovanni Zangari
/
Giovanni Zangari
第6著者 所属(和/英)
バージニア大学
(略称:
UVA
)
University of Virginia
(略称:
UVA
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
本間 敬之
/
Takayuki Homma
/
ホンマ タカユキ
第7著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
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(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2015-07-10 15:20:00
発表時間
25分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号(vol)
vol.39
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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