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講演抄録/キーワード
講演名
2015-07-10 16:10
フルホイスラー合金Co2FeSiとCo2MnSiへの垂直磁気異方性の付与
○
高村陽太
・
松下直輝
・
篠原光貴
・
鈴木隆寛
・
藤野頼信
(
東工大
)・
園部義明
(
サムソン
)・
中川茂樹
(
東工大
)
抄録
(和)
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS MMS
開催期間
2015-07-10 - 2015-07-10
開催地(和)
早稲田大学
開催地(英)
Waseda Univ.
テーマ(和)
固体メモリ・媒体+一般
テーマ(英)
Solid State Memory, Media, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2015-07-MR-MMS
本文の言語
日本語
タイトル(和)
フルホイスラー合金Co2FeSiとCo2MnSiへの垂直磁気異方性の付与
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Addition of perpendicular magnetic anisotropy to full-Heulser Co2FeSi and Co2MnSi alloy thin films
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
高村 陽太
/
Yota Takamura
/
タカムラ ヨウタ
第1著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
松下 直輝
/
Naoki Matsushita
/
マツシタ ナオキ
第2著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
篠原 光貴
/
Kouki Shinohara
/
シノアラ コウキ
第3著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
鈴木 隆寛
/
Takahiro Suzuki
/
スズキ タカヒロ
第4著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
藤野 頼信
/
Yorinobu Fujino
/
フジノ ヨリノブ
第5著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
園部 義明
/
Yoshiaki Sonobe
/
ソノベ ヨシアキ
第6著者 所属(和/英)
サムスン日本研究所
(略称:
サムソン
)
Samsung R&D Instetute Japan-Osaka
(略称:
Samsung
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
中川 茂樹
/
Shigeki Nakagawa
/
ナカガワ シゲキ
第7著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2015-07-10 16:10:00
発表時間
25分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号(vol)
vol.39
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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