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講演抄録/キーワード
講演名 2016-03-04 13:10
強誘電性Y:HfO2薄膜におけるナノスケールドメイン反転
陳 舟平永良臣東北大)・清水荘雄片山きりは三村和仙舟窪 浩東工大)・長 康雄東北大
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS IEE-MAG  
開催期間 2016-03-04 - 2016-03-04 
開催地(和) 名古屋大学 
開催地(英) Nagoya Univ. 
テーマ(和) 光記録,一般 
テーマ(英) Optical recording, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2016-03-MR-MMS-MAG 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 強誘電性Y:HfO2薄膜におけるナノスケールドメイン反転 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nanoscale domain inversion in ferroelectric Y:HfO2 thin film 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 陳 舟 / Zhou Chen / チン シュウ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 平永 良臣 / Yoshiomi Hiranaga / ヒラナガ ヨシオミ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 荘雄 / Takao Shimizu / シミズ タカオ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 片山 きりは / Kiriha Katayama / カタヤマ キリハ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 三村 和仙 / Takanori Mimura / ミムラ タカノリ
第5著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 舟窪 浩 / Hiroshi Funakubo / フナクボ ヒロシ
第6著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 長 康雄 / Yasuo Cho /
第7著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者
発表日時 2016-03-04 13:10:00 
発表時間 25 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-40 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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