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講演抄録/キーワード
講演名 2016-07-08 14:15
Co_2FeSi/MgO界面での酸素導入による垂直磁気異方性の発現
篠原光貴鈴木隆寛高村陽太中川茂樹東工大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2016-07-08 - 2016-07-08 
開催地(和) 中央大学 
開催地(英) Chuo Univ. 
テーマ(和) 固体メモリ・媒体,一般 
テーマ(英) Solid State Memory, Media, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2016-07-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Co_2FeSi/MgO界面での酸素導入による垂直磁気異方性の発現 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Perpendicular magnetic anisotropy induced by oxygen exposure at Co_2FeSi/MgO interfaces 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 篠原 光貴 / Koki Shinohara / シノハラ コウキ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 隆寛 / Takahiro Suzuki / スズキ タカヒロ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高村 陽太 / Yota Takamura / タカムラ ヨウタ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-07-08 14:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) vol.40 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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