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講演抄録/キーワード
講演名 2016-09-26 16:20
CMOSイメージセンサーに対応した画素領域のコンタクト直下に形成したカーボン複合体欠陥での超近接ゲッタリング技術によるホワイトスポットの低減
山口 直山下朋弘ルネサス)・神野 健後藤洋太郎黒井 隆RSMC)・松浦正純ルネサス
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報, vol. 40, no. 32, IST2016-47, pp. 23-26, 2016年9月.
資料番号 IST2016-47 
発行日 2016-09-19 (IST) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IST  
開催期間 2016-09-26 - 2016-09-26 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) イメージセンサおよび一般 
テーマ(英) Image Sensor , etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IST 
会議コード 2016-09-IST 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) CMOSイメージセンサーに対応した画素領域のコンタクト直下に形成したカーボン複合体欠陥での超近接ゲッタリング技術によるホワイトスポットの低減 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) White Spots Reduction by Ultimate Proximity Metal Gettering at Carbon Complexes Formed underneath Contact Area in CMOS Image Sensors 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 直 / Tadashi Yamaguchi / ヤマグチ タダシ
第1著者 所属(和/英) ルネサスエレクトロニクス株式会社 (略称: ルネサス)
Renesas Electronics Corporation (略称: Renesas)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山下 朋弘 / Tomohiro Yamashita / ヤマシタ トモヒロ
第2著者 所属(和/英) ルネサスエレクトロニクス株式会社 (略称: ルネサス)
Renesas Electronics Corporation (略称: Renesas)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 神野 健 / Takeshi Kamino / カミノ タケシ
第3著者 所属(和/英) ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング株式会社 (略称: RSMC)
Renesas Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: RSMC)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 後藤 洋太郎 / Yotaro Goto / ゴトウ ヨウタロウ
第4著者 所属(和/英) ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング株式会社 (略称: RSMC)
Renesas Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: RSMC)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒井 隆 / Takashi Kuroi / クロイ タカシ
第5著者 所属(和/英) ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング株式会社 (略称: RSMC)
Renesas Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: RSMC)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 松浦 正純 / Masazumi Matsuura / マツウラ マサズミ
第6著者 所属(和/英) ルネサスエレクトロニクス株式会社 (略称: ルネサス)
Renesas Electronics Corporation (略称: Renesas)
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講演者
発表日時 2016-09-26 16:20:00 
発表時間 30 
申込先研究会 IST 
資料番号 ITE-IST2016-47 
巻番号(vol) ITE-40 
号番号(no) no.32 
ページ範囲 pp.23-26 
ページ数 ITE-4 
発行日 ITE-IST-2016-09-19 


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