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講演抄録/キーワード
講演名 2017-07-07 13:50
低消費電力MTJ用の負の超磁歪を有するSmFe2薄膜の作製と評価
冨田誠人石谷優剛高村陽太中川茂樹東工大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2017-07-07 - 2017-07-07 
開催地(和) 東京工業大学 
開催地(英) Tokyo Tech 
テーマ(和) 固体メモリ・媒体,一般 
テーマ(英) Solid State Memory, Media, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2017-07-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低消費電力MTJ用の負の超磁歪を有するSmFe2薄膜の作製と評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication and evaluation of SmFe2 thin film with negative giant magnetostriction for low consumption magnetic tunnel junction 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 冨田 誠人 / Masato Tomita / トミタ マサト
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石谷 優剛 / Yugo Ishitani / イシタニ ユウゴウ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高村 陽太 / Yota Takamura / タカムラ ヨウタ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-07-07 13:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) vol.41 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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