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講演抄録/キーワード
講演名 2018-01-26 09:40
ミストCVD法によるZnO薄膜の形成と発光特性
中田克弥菅野剛志齋藤嘉騎佐伯祥吾山路郷史深田晴己山口敦史金沢工大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970

研究会情報
研究会 IEICE-EID IDY IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD  
開催期間 2018-01-25 - 2018-01-26 
開催地(和) 静岡大学 浜松キャンパス 
開催地(英) Shizuoka Univ., Hamamatsu 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2018-01-EID-IDY-SSL-JC-EDD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ミストCVD法によるZnO薄膜の形成と発光特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Luminescent properties in ZnO thin films prepared by mist-CVD method 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 中田 克弥 / Katsuya Nakada / ナカダ カツヤ
第1著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 菅野 剛志 / Takeshi Kanno / カンノ タケシ
第2著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 嘉騎 / Yoshiki Saito / サイトウ ヨシキ
第3著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐伯 祥吾 / Shogo Saeki / サエキ ショウゴ
第4著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山路 郷史 / Satoshi Yamaji / ヤマジ サトシ
第5著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 深田 晴己 / Haruki Fukada / フカダ ハルキ
第6著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 敦史 / Atsushi Yamaguchi / ヤマグチ アツシ
第7著者 所属(和/英) 金沢工業大学 (略称: 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称: KIT)
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講演者
発表日時 2018-01-26 09:40:00 
発表時間 10 
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-42 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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