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講演抄録／キーワード
講演名
2018-01-26 11:55
ラミネーションコーティング法を用いてパターン成膜した有機半導体の膜質評価とTFT素子への応用
○
長谷川 諒
・
佐藤琢馬
（
東理大院
）・
宮川幹司
・
藤崎好英
（
NHK
）
抄録
（和）
(まだ登録されていません)
（英）
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キーワード
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（英）
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文献情報
映情学技報, vol. 42, no. 2, IDY2018-13, pp. 105-108, 2018年1月.
資料番号
IDY2018-13
発行日
2018-01-18 (IDY)
ISSN
Print edition: ISSN 1342-6893 Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会
IEICE-EID IDY IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD
開催期間
2018-01-25 - 2018-01-26
開催地（和）
静岡大学 浜松キャンパス
開催地（英）
Shizuoka Univ., Hamamatsu
テーマ（和）
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会
テーマ（英）
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IDY
会議コード
2018-01-EID-IDY-SSL-JC-EDD
本文の言語
日本語
タイトル（和）
ラミネーションコーティング法を用いてパターン成膜した有機半導体の膜質評価とTFT素子への応用
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Evaluation of organic semiconductor film patterned by lamination coating method and its application to TFT devices
サブタイトル（英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
長谷川 諒
/
Ryou Hasegawa
/
ハセガワ リョウ
第1著者 所属（和/英）
東京理科大大学院
(略称：
東理大院
)
Tokyo University of Science
(略称：
Tokyo Univ. of Science
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
佐藤 琢馬
/
Takuma Sato
/
サトウ タクマ
第2著者 所属（和/英）
東京理科大大学院
(略称：
東理大院
)
Tokyo University of Science
(略称：
Tokyo Univ. of Science
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
宮川 幹司
/
Masashi Miyakawa
/
ミヤカワ マサシ
第3著者 所属（和/英）
NHK放送技術研究所
(略称：
NHK
)
NHK Scienec & Technology Laboratories
(略称：
NHK
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
藤崎 好英
/
Yoshihide Fujisaki
/
フジサキ ヨシヒデ
第4著者 所属（和/英）
NHK放送技術研究所
(略称：
NHK
)
NHK Scienec & Technology Laboratories
(略称：
NHK
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第5著者 所属（和/英）
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第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第6著者 所属（和/英）
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第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第7著者 所属（和/英）
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第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第8著者 所属（和/英）
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第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第9著者 所属（和/英）
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第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第10著者 所属（和/英）
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第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第11著者 所属（和/英）
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第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第12著者 所属（和/英）
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第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第13著者 所属（和/英）
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第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第14著者 所属（和/英）
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第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第16著者 所属（和/英）
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第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第17著者 所属（和/英）
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第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
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第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第19著者 所属（和/英）
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第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第20著者 所属（和/英）
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講演者
第1著者
発表日時
2018-01-26 11:55:00
発表時間
10分
申込先研究会
IDY
資料番号
IDY2018-13
巻番号（vol）
vol.42
号番号（no）
no.2
ページ範囲
pp.105-108
ページ数
4
発行日
2018-01-18 (IDY)
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