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講演抄録/キーワード
講演名 2019-03-22 11:20
2.74μmセルで飽和信号1万e-を達成した裏面照射型画素内メモリ保持方式グローバルシャッタCMOSイメージセンサ
熊谷至通・○吉田遼人大澤尚幸池田晴美山下和芳阿部高志工藤成貴SSS)・山根淳二出木場 透納土晋一郎小野雄馬国武幸史佐藤 充佐藤尚之榎本貴幸SCK)・中澤圭一森 裕之舘下八州志大野圭一SSS
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文献情報 映情学技報, vol. 43, no. 11, IST2019-16, pp. 21-25, 2019年3月.
資料番号 IST2019-16 
発行日 2019-03-15 (IST) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970

研究会情報
研究会 IST  
開催期間 2019-03-22 - 2019-03-22 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 固体撮像技術および一般 
テーマ(英) Image Sensors, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IST 
会議コード 2019-03-IST 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 2.74μmセルで飽和信号1万e-を達成した裏面照射型画素内メモリ保持方式グローバルシャッタCMOSイメージセンサ 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Back-Illuminated 2.74 μm-Pixel-Pitch Global Shutter CMOS Image Sensor with Charge-Domain Memory Achieving a 10k e- Saturation Signal 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 熊谷 至通 / Yoshimichi Kumagai / クマガイ ヨシミチ
第1著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 遼人 / Ryoto Yoshita / ヨシタ リョウト
第2著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大澤 尚幸 / Naoyuki Osawa / オオサワ ナオユキ
第3著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 池田 晴美 / Harumi Ikeda / イケダ ハルミ
第4著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山下 和芳 / Kazuyoshi Yamashita / ヤマシタ カズヨシ
第5著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 阿部 高志 / Takashi Abe / アベ タカシ
第6著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 工藤 成貴 / Shigetaka Kudoh / クドウ シゲタカ
第7著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 山根 淳二 / Junji Yamane / ヤマネ ジュンジ
第8著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 出木場 透 / Tooru Idekoba / イデコバ トオル
第9著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 納土 晋一郎 / Shinichiro Nohdo / ノウド シンイチロウ
第10著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 小野 雄馬 / Yuma Ono / オノ ユウマ
第11著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 国武 幸史 / Sachihito Kunitake / クニタケ サチヒロ
第12著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 充 / Mitsuru Sato / サトウ ミツル
第13著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 尚之 / Naoyuki Sato / サトウ ナオユキ
第14著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) 榎本 貴幸 / Takayuki Enomoto / エノモト タカユキ
第15著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社 (略称: SCK)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation (略称: SCK)
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) 中澤 圭一 / Keiichi Nakazawa / ナカザワ ケイイチ
第16著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) 森 裕之 / Hiroyuki Mori / モリ ヒロユキ
第17著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) 舘下 八州志 / Yasushi Tateshita / タテシタ ヤスシ
第18著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) 大野 圭一 / Keiichi Ohno / オウノ ケイイチ
第19著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社 (略称: SSS)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2019-03-22 11:20:00 
発表時間 30 
申込先研究会 IST 
資料番号 ITE-IST2019-16 
巻番号(vol) ITE-43 
号番号(no) no.11 
ページ範囲 pp.21-25 
ページ数 ITE-5 
発行日 ITE-IST-2019-03-15 


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