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講演抄録／キーワード
講演名 2019-12-06 10:45
スパッタ成膜中の強磁性薄膜成長過程の内部応力観測
○中川茂樹・林原久憲・中込将成・小川良正・高村陽太（東工大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2019-12-05 - 2019-12-06 
開催地（和） 愛媛大学 
開催地（英） Ehime University 
テーマ（和） 信号処理，一般 
テーマ（英） Signal Processing and Others 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2019-12-MRIS-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） スパッタ成膜中の強磁性薄膜成長過程の内部応力観測 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） In-situ internal stress observation of growing ferromagnetic thin films during sputter-deposition process 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ
第1著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 林原 久憲 / Hisanori Hayashibara /
第2著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 中込 将成 / Masanari Nakagomi /
第3著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 小川 良正 / Yoshimasa Ogawa /
第4著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 高村 陽太 / Yota Takamura /
第5著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-12-06 10:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号（vol） vol.43 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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