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講演抄録/キーワード
講演名 2019-12-24 16:00
Stable Growth of (100)-Oriented Low Angle Grain Boundary Silicon Thin Films Extending to the length of 3000 μm by a Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization
Muhammad Arif RazaliNobuo SasakiYasuaki IshikawaYukiharu UraokaNAIST
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-SDM IEICE-EID IDY  
開催期間 2019-12-24 - 2019-12-24 
開催地(和) 奈良先端大(物質領域 大講義室) 
開催地(英) NAIST 
テーマ(和) 半導体材料プロセス・デバイス研究会 
テーマ(英) Semiconductor Material Process and Device Meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2019-12-SDM-EID-IDY 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Stable Growth of (100)-Oriented Low Angle Grain Boundary Silicon Thin Films Extending to the length of 3000 μm by a Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) ムハマド アリフ ラザリ / Muhammad Arif Razali / ムハマド アリフ ラザリ
第1著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々木 伸夫 / Nobuo Sasaki / 佐々木 伸夫
第2著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 石河 泰明 / Yasuaki Ishikawa / 石河 泰明
第3著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / 浦岡 行治
第4著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-12-24 16:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号(vol) vol.43 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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