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講演抄録/キーワード
講演名 2019-12-24 16:20
2段階堆積プロセスを用いた(Bi,La)4Ti3O12薄膜の結晶成長
吉田 誉石崎勇真宮部雄太木村 睦龍谷大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報, vol. 43, no. 44, IDY2019-73, pp. 25-28, 2019年12月.
資料番号 IDY2019-73 
発行日 2019-12-17 (IDY) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-SDM IEICE-EID IDY  
開催期間 2019-12-24 - 2019-12-24 
開催地(和) 奈良先端大(物質領域 大講義室) 
開催地(英) NAIST 
テーマ(和) 半導体材料プロセス・デバイス研究会 
テーマ(英) Semiconductor Material Process and Device Meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2019-12-SDM-EID-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 2段階堆積プロセスを用いた(Bi,La)4Ti3O12薄膜の結晶成長 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Crystal growth of (Bi, La) 4Ti3O12 thin film using a two-step deposition process 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 誉 / Homare Yoshida / ヨシダ ホマレ
第1著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石崎 勇真 / Yuma Ishisaki / イシサキ ユウマ
第2著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮部 雄太 / Yuta Miyabe / ミヤベ ユウタ
第3著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ
第4著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
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講演者
発表日時 2019-12-24 16:20:00 
発表時間 20 
申込先研究会 IDY 
資料番号 ITE-IDY2019-73 
巻番号(vol) ITE-43 
号番号(no) no.44 
ページ範囲 pp.25-28 
ページ数 ITE-4 
発行日 ITE-IDY-2019-12-17 


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