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講演抄録/キーワード
講演名 2020-01-23 15:15
[依頼講演]原子状水素を用いた表面処理技術の半導体分野への応用
部家 彰兵庫県立大
抄録 (和) 水素ガスを加熱金属線で分解し生成した原子状水素を用いた表面処理技術(原子状水素アニール(AHA))の半導体分野への応用について検討した.本稿では,フレキシブルディスプレイ・シートコンピュータ実現のための課題である①無機半導体薄膜トランジスタの特性向上,②プラスチックと薄膜の密着性向上,③透明導電膜の作製(酸化グラフェンの還元)におけるAHAの効果とその機構を紹介する.加熱金属線により分解・生成した原子状水素は低温でもGe薄膜の欠陥終端,酸化グラフェンの還元が可能であり,フレキシブルディスプレイ・シートコンピュータ実現のための要素技術としての応用が期待できる. 
(英) To realize flexible displays and sheet computers, we have tried to develop the novel surface treatment, named Atomic Hydrogen Annealing (AHA), using atomic hydrogen generated on a heated metal catalyst for next generation semiconductor processing. In this paper, the improvement of the poly-Ge thin-film-transistors, the adhesion property between barrier film and plastic substrate, and the transparent electrode fabrication (reduction of graphene oxide) by using AHA were investigated. In AHA, the hydrogen passivation of defects in the Ge thin film and the reduction of graphene oxide were achieved at a low temperature. AHA is expected to be a surface treatment for next generation semiconductor processing.
キーワード (和) 原子状水素アニール / 水素化 / 還元反応 / 再結合エネルギー / 薄膜トランジスタ / プラスチック基板 / /  
(英) Atomic Hydrogen Annealing (AHA) / Hydrogenation / Reduction / Recombination Energy / Thin-Film Transistors / Plastic substrate / /  
文献情報 映情学技報, vol. 44, no. 1, IDY2020-13, pp. 67-72, 2020年1月.
資料番号 IDY2020-13 
発行日 2020-01-16 (IDY) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IDY IEICE-EID IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD  
開催期間 2020-01-23 - 2020-01-24 
開催地(和) 鳥取大鳥取キャンパス 
開催地(英) Tottori Univ 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2020-01-IDY-EID-SSL-JC-EDD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 原子状水素を用いた表面処理技術の半導体分野への応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Surface Treatment using Atomic Hydrogen for Semiconductor Process 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 原子状水素アニール / Atomic Hydrogen Annealing (AHA)  
キーワード(2)(和/英) 水素化 / Hydrogenation  
キーワード(3)(和/英) 還元反応 / Reduction  
キーワード(4)(和/英) 再結合エネルギー / Recombination Energy  
キーワード(5)(和/英) 薄膜トランジスタ / Thin-Film Transistors  
キーワード(6)(和/英) プラスチック基板 / Plastic substrate  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
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講演者
発表日時 2020-01-23 15:15:00 
発表時間 25 
申込先研究会 IDY 
資料番号 ITE-IDY2020-13 
巻番号(vol) ITE-44 
号番号(no) no.1 
ページ範囲 pp.67-72 
ページ数 ITE-6 
発行日 ITE-IDY-2020-01-16 


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