講演抄録/キーワード |
講演名 |
2020-08-06 11:00
グローバルシャッタ向けCMOSテラヘルツイメージセンサの利得バラツキ補正機構 ○平田脩馬・永安佑次・澤口浩太朗・金澤悠里・池辺将之(北大) |
抄録 |
(和) |
グローバルシャッタ型CMOSテラヘルツイメージセンサに向けた,利得の画素バラツキ補正機構を提案する.テラヘルツ(Terahertz, THz)波を受信しMOSFETによって包絡線検波を行う際,製造バラツキの影響で画素ごとに利得の変動が生じる.我々は検波用MOSFETの動作点を,基板電位にバイアスされたMOSFETに流れる微小電流を用いて校正し,全ての画素で同時に利得バラツキを抑える方法を提案する.適切に動作点を決定することで,利得の変動を抑えられることをシミュレーションで示した. |
(英) |
We propose a gain calibration mechanism for the global shutter CMOS terahertz image sensor. Even though we use the MOSFET envelope detector to perform terahertz (THz) detection, process variations that affect device parameters can cause variations in pixel gain. To compensate the pixel variation, we propose to set the bias voltages of the MOSFET on all pixels simultaneously by using a small current condition of the MOSFET. We simulated the variation characteristics and confirmed that appropriate bias-voltage setting can suppress the gain variation . |
キーワード |
(和) |
テラヘルツ / テラヘルツイメージセンサ / CMOS / 包絡線検波 / 製造バラツキ / バラツキ補償 / グローバルシャッタ / |
(英) |
terahertz / terahertz image sensor / CMOS / envelope detector / process variation / variation compensation / global shutter / |
文献情報 |
映情学技報, vol. 44, no. 17, IST2020-39, pp. 9-12, 2020年8月. |
資料番号 |
IST2020-39 |
発行日 |
2020-07-30 (IST) |
ISSN |
Print edition: ISSN 1342-6893 Online edition: ISSN 2424-1970 |
PDFダウンロード |
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研究会情報 |
研究会 |
IEICE-ICD IEICE-SDM IST |
開催期間 |
2020-08-06 - 2020-08-07 |
開催地(和) |
オンライン開催 |
開催地(英) |
Online |
テーマ(和) |
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 |
テーマ(英) |
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
IST |
会議コード |
2020-08-ICD-SDM-IST |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
グローバルシャッタ向けCMOSテラヘルツイメージセンサの利得バラツキ補正機構 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Gain calibration technique for global shutter CMOS terahertz image sensor pixels |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
テラヘルツ / terahertz |
キーワード(2)(和/英) |
テラヘルツイメージセンサ / terahertz image sensor |
キーワード(3)(和/英) |
CMOS / CMOS |
キーワード(4)(和/英) |
包絡線検波 / envelope detector |
キーワード(5)(和/英) |
製造バラツキ / process variation |
キーワード(6)(和/英) |
バラツキ補償 / variation compensation |
キーワード(7)(和/英) |
グローバルシャッタ / global shutter |
キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
平田 脩馬 / Yuma Hirata / ヒラタ ユウマ |
第1著者 所属(和/英) |
北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido University (略称: Hokkkaido Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
永安 佑次 / Yuji Nagayasu / ナガヤス ユウジ |
第2著者 所属(和/英) |
北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido University (略称: Hokkkaido Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
澤口 浩太朗 / Kotaro Sawaguchi / サワグチ コウタロウ |
第3著者 所属(和/英) |
北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido University (略称: Hokkkaido Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
金澤 悠里 / Yuri Kanazawa / カナザワ ユウリ |
第4著者 所属(和/英) |
北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido University (略称: Hokkkaido Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
池辺 将之 / Masayuki Ikebe / イケベ マサユキ |
第5著者 所属(和/英) |
北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido University (略称: Hokkkaido Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2020-08-06 11:00:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
IST |
資料番号 |
IST2020-39 |
巻番号(vol) |
vol.44 |
号番号(no) |
no.17 |
ページ範囲 |
pp.9-12 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2020-07-30 (IST) |