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講演抄録／キーワード
講演名 2020-12-02 15:20
Ga-Sn-O薄膜を用いた二層構造ReRAMの最適化
○倉崎彩太・橋本快斗・角田　涼・赤根詩穂里・牧岡大輔・杉崎澄生・木村　睦（龍谷大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IEICE-SDM IDY  
開催期間 2020-12-02 - 2020-12-02 
開催地（和） 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地（英）  
テーマ（和） シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ（英）  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2020-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） Ga-Sn-O薄膜を用いた二層構造ReRAMの最適化 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Optimization of double-layered ReRAM using Ga-Sn-O thin film 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 倉崎 彩太 / Ayata Kurasaki /
第1著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 橋本 快斗 / Kaito Hashimoto /
第2著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 角田 涼 / Ryo Sumida /
第3著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 赤根 詩穂里 / Shihori Akane /
第4著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 牧岡 大輔 / Daisuke Makioka /
第5著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 杉崎 澄生 / Sumio Sugisaki /
第6著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 木村 睦 / Mutsumi Kimura /
第7著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-12-02 15:20:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号（vol） vol.44 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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