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講演抄録/キーワード
講演名 2020-12-02 15:00
TiN電極を用いたTa2O5-ReRAM素子におけるデジタルおよびアナログ抵抗変化の共存
山田和尚木本恒暢京大)・西 佑介京大/舞鶴高専
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IEICE-SDM IDY  
開催期間 2020-12-02 - 2020-12-02 
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地(英)  
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2020-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) TiN電極を用いたTa2O5-ReRAM素子におけるデジタルおよびアナログ抵抗変化の共存 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Coexistence of digital and analog resistive switching in Ta2O5-based ReRAM cells with TiN electrodes. 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 和尚 / Kazutaka Yamada / ヤマダ カズタカ
第1著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 木本 恒暢 / Tsunenobu Kimoto / キモト ツネノブ
第2著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 西 佑介 / Yusuke Nishi / ニシ ユウスケ
第3著者 所属(和/英) 京都大学/舞鶴工業高等専門学校 (略称: 京大/舞鶴高専)
Kyoto University/National Institute of Technology, Maizuru College (略称: Kyoto Univ./NIT, Maizuru College)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-12-02 15:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号(vol) vol.44 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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