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講演抄録/キーワード
講演名
2022-12-08 14:20
3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜
○
黄 童雙
・
高村陽太
(
東工大
)・
齋藤美紀子
・
エム ディー ママダル ハサン
・
荒木大輝
・
本間敬之
(
早大
)・
葛西伸哉
(
物質・材料研究機構
)・
山田啓介
(
岐阜大
)・
園部義明
(
早大
)・
小野輝男
(
京大
)・
中川茂樹
(
東工大
)
抄録
(和)
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS MMS
開催期間
2022-12-08 - 2022-12-09
開催地(和)
愛媛大学 + オンライン開催
開催地(英)
Ehime Univ. + Online
テーマ(和)
信号処理,磁気記録,一般
テーマ(英)
Signal Processing and Others
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2022-12-MRIS-MMS
本文の言語
英語(日本語タイトルあり)
タイトル(和)
3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Electrophoretically deposited Copt film for realization of 3D domain wall motion memory
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
黄 童雙
/
Tongshuang Huang
/
コウ ドウソウ
第1著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
高村 陽太
/
Yota Takamura
/
タカムラ ヨウタ
第2著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
齋藤 美紀子
/
Mikiko Saito
/
サイトウ ミキコ
第3著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
エム ディー ママダル ハサン
/
Md Mahmudul Hasan
/
エム ディー ママダル ハサン
第4著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
荒木 大輝
/
Daiki Araki
/
アラキ ダイキ
第5著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
本間 敬之
/
Takayuki Homma
/
ホンマ タカユキ
第6著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
葛西 伸哉
/
Shinya Kasai
/
カサイ シンヤ
第7著者 所属(和/英)
国立研究開発法人物質・材料研究機構
(略称:
物質・材料研究機構
)
National Institute for Materials Science
(略称:
NIMS
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
山田 啓介
/
Keisuke Yamada
/
ヤマダ ケイスケ
第8著者 所属(和/英)
岐阜大学
(略称:
岐阜大
)
Gifu University
(略称:
Gifu Univ.
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
園部 義明
/
Yoshiaki Sonobe
/
ソノベ ヨシアキ
第9著者 所属(和/英)
早稲田大学
(略称:
早大
)
Waseda University
(略称:
Waseda Univ.
)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
小野 輝男
/
Teruo Ono
/
オノ テルオ
第10著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
中川 茂樹
/
Shigeki Nakagawa
/
ナカガワ シゲキ
第11著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2022-12-08 14:20:00
発表時間
25分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号(vol)
vol.46
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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