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講演抄録/キーワード
講演名 2022-12-08 14:20
3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜
黄 童雙高村陽太東工大)・齋藤美紀子エム ディー ママダル ハサン荒木大輝本間敬之早大)・葛西伸哉物質・材料研究機構)・山田啓介岐阜大)・園部義明早大)・小野輝男京大)・中川茂樹東工大
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2022-12-08 - 2022-12-09 
開催地(和) 愛媛大学 + オンライン開催 
開催地(英) Ehime Univ. + Online 
テーマ(和) 信号処理,磁気記録,一般 
テーマ(英) Signal Processing and Others 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-MRIS 
会議コード 2022-12-MRIS-MMS 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) 3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Electrophoretically deposited Copt film for realization of 3D domain wall motion memory 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 黄 童雙 / Tongshuang Huang / コウ ドウソウ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 高村 陽太 / Yota Takamura / タカムラ ヨウタ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 美紀子 / Mikiko Saito / サイトウ ミキコ
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) エム ディー ママダル ハサン / Md Mahmudul Hasan / エム ディー ママダル ハサン
第4著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒木 大輝 / Daiki Araki / アラキ ダイキ
第5著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ
第6著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 葛西 伸哉 / Shinya Kasai / カサイ シンヤ
第7著者 所属(和/英) 国立研究開発法人物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 啓介 / Keisuke Yamada / ヤマダ ケイスケ
第8著者 所属(和/英) 岐阜大学 (略称: 岐阜大)
Gifu University (略称: Gifu Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 園部 義明 / Yoshiaki Sonobe / ソノベ ヨシアキ
第9著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 小野 輝男 / Teruo Ono / オノ テルオ
第10著者 所属(和/英) 京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ
第11著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
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講演者 第1著者 
発表日時 2022-12-08 14:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IEICE-MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) vol.46 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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