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講演抄録／キーワード
講演名
2022-12-08 14:20
3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜
○
黄 童雙
・
高村陽太
（
東工大
）・
齋藤美紀子
・
エム ディー ママダル ハサン
・
荒木大輝
・
本間敬之
（
早大
）・
葛西伸哉
（
物質・材料研究機構
）・
山田啓介
（
岐阜大
）・
園部義明
（
早大
）・
小野輝男
（
京大
）・
中川茂樹
（
東工大
）
抄録
（和）
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（英）
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キーワード
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（英）
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS MMS
開催期間
2022-12-08 - 2022-12-09
開催地（和）
愛媛大学 + オンライン開催
開催地（英）
Ehime Univ. + Online
テーマ（和）
信号処理，磁気記録，一般
テーマ（英）
Signal Processing and Others
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2022-12-MRIS-MMS
本文の言語
英語（日本語タイトルあり）
タイトル（和）
3次元磁気メモリの実現に向けたCoPtの電解めっき膜
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Electrophoretically deposited Copt film for realization of 3D domain wall motion memory
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(5)（和/英）
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キーワード(6)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
黄 童雙
/
Tongshuang Huang
/
コウ ドウソウ
第1著者 所属（和/英）
東京工業大学
(略称：
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称：
Tokyo Tech
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
高村 陽太
/
Yota Takamura
/
タカムラ ヨウタ
第2著者 所属（和/英）
東京工業大学
(略称：
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称：
Tokyo Tech
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
齋藤 美紀子
/
Mikiko Saito
/
サイトウ ミキコ
第3著者 所属（和/英）
早稲田大学
(略称：
早大
)
Waseda University
(略称：
Waseda Univ.
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
エム ディー ママダル ハサン
/
Md Mahmudul Hasan
/
エム ディー ママダル ハサン
第4著者 所属（和/英）
早稲田大学
(略称：
早大
)
Waseda University
(略称：
Waseda Univ.
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
荒木 大輝
/
Daiki Araki
/
アラキ ダイキ
第5著者 所属（和/英）
早稲田大学
(略称：
早大
)
Waseda University
(略称：
Waseda Univ.
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
本間 敬之
/
Takayuki Homma
/
ホンマ タカユキ
第6著者 所属（和/英）
早稲田大学
(略称：
早大
)
Waseda University
(略称：
Waseda Univ.
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
葛西 伸哉
/
Shinya Kasai
/
カサイ シンヤ
第7著者 所属（和/英）
国立研究開発法人物質・材料研究機構
(略称：
物質・材料研究機構
)
National Institute for Materials Science
(略称：
NIMS
)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
山田 啓介
/
Keisuke Yamada
/
ヤマダ ケイスケ
第8著者 所属（和/英）
岐阜大学
(略称：
岐阜大
)
Gifu University
(略称：
Gifu Univ.
)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
園部 義明
/
Yoshiaki Sonobe
/
ソノベ ヨシアキ
第9著者 所属（和/英）
早稲田大学
(略称：
早大
)
Waseda University
(略称：
Waseda Univ.
)
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
小野 輝男
/
Teruo Ono
/
オノ テルオ
第10著者 所属（和/英）
京都大学
(略称：
京大
)
Kyoto University
(略称：
Kyoto Univ.
)
第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
中川 茂樹
/
Shigeki Nakagawa
/
ナカガワ シゲキ
第11著者 所属（和/英）
東京工業大学
(略称：
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称：
Tokyo Tech
)
第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第12著者 所属（和/英）
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第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第13著者 所属（和/英）
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第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第14著者 所属（和/英）
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第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第15著者 所属（和/英）
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第16著者 所属（和/英）
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第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第17著者 所属（和/英）
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第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
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第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第19著者 所属（和/英）
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第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第20著者 所属（和/英）
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第21著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第21著者 所属（和/英）
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第22著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第22著者 所属（和/英）
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第23著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第23著者 所属（和/英）
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第24著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第24著者 所属（和/英）
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第25著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第25著者 所属（和/英）
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第26著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第26著者 所属（和/英）
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第27著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第27著者 所属（和/英）
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第28著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第28著者 所属（和/英）
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第29著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第29著者 所属（和/英）
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第30著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第30著者 所属（和/英）
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第31著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第31著者 所属（和/英）
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第32著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第32著者 所属（和/英）
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第33著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第33著者 所属（和/英）
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第34著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第34著者 所属（和/英）
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第35著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第35著者 所属（和/英）
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第36著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第36著者 所属（和/英）
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(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2022-12-08 14:20:00
発表時間
25分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号（vol）
vol.46
号番号（no）
ページ範囲
ページ数
発行日
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