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講演抄録/キーワード
講演名
2024-08-06 09:30
[招待講演]3D-NAND型メモリーにおけるワードラインの抵抗率低減
○
寺田 博
(
東京エレクトロン
)・
山口克昌
・
横井 翼
・
鮫島 崇
・
鈴木啓介
(
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
)・
中村源志
・
永井洋之
(
東京エレクトロン
)
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会
IEICE-ICD IEICE-SDM IST
開催期間
2024-08-05 - 2024-08-07
開催地(和)
北海道大学 情報教育館3F スタジオ型多目的中講義室
開催地(英)
テーマ(和)
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用
テーマ(英)
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-SDM
会議コード
2024-08-SDM-ICD-IST
本文の言語
日本語
タイトル(和)
3D-NAND型メモリーにおけるワードラインの抵抗率低減
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Resistivity reduction of word lines in 3D-NAND memory
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
寺田 博
/
Hiroshi Terada
/
テラダ ヒロシ
第1著者 所属(和/英)
東京エレクトロン株式会社
(略称:
東京エレクトロン
)
Tokyo Electron Ltd.
(略称:
TEL
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
山口 克昌
/
Katsumasa Yamaguchi
/
ヤマグチ カツマサ
第2著者 所属(和/英)
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社
(略称:
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
)
Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
(略称:
TTS
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
横井 翼
/
Tsubasa Yokoi
/
ヨコイ ツバサ
第3著者 所属(和/英)
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社
(略称:
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
)
Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
(略称:
TTS
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
鮫島 崇
/
Takashi Sameshima
/
サメシマ タカシ
第4著者 所属(和/英)
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社
(略称:
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
)
Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
(略称:
TTS
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
鈴木 啓介
/
Keisuke Suzuki
/
スズキ ケイスケ
第5著者 所属(和/英)
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社
(略称:
東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
)
Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
(略称:
TTS
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
中村 源志
/
Genji Nakamura
/
ナカムラ ゲンジ
第6著者 所属(和/英)
東京エレクトロン株式会社
(略称:
東京エレクトロン
)
Tokyo Electron Ltd.
(略称:
TEL
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
永井 洋之
/
Hiroyuki Nagai
/
ナガイ ヒロユキ
第7著者 所属(和/英)
東京エレクトロン株式会社
(略称:
東京エレクトロン
)
Tokyo Electron Ltd.
(略称:
TEL
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
(略称: )
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2024-08-06 09:30:00
発表時間
45分
申込先研究会
IEICE-SDM
資料番号
巻番号(vol)
vol.48
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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