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講演抄録/キーワード
講演名
2024-11-01 09:20
生体模倣型酸化物リーク積分トランジスタの時定数制御
○
侯 祐輝
(
東理大/産総研
)・
鬼頭 愛
・
井上 悠
・
井上 公
(
産総研
)
抄録
(和)
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(英)
(Not available yet)
キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS IEICE-CPM MMS
開催期間
2024-10-31 - 2024-11-01
開催地(和)
信州大学+オンライン開催
開催地(英)
Shinshu Univ.
テーマ(和)
スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般
テーマ(英)
Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2024-10-MRIS-CPM-MMS
本文の言語
日本語
タイトル(和)
生体模倣型酸化物リーク積分トランジスタの時定数制御
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Controlling time constant of an oxide-based leaky-integrating transistor for biomimetic information processing
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
侯 祐輝
/
Yuuki Koh
/
コウ ユウキ
第1著者 所属(和/英)
東京理科大学/産業技術総合研究所
(略称:
東理大/産総研
)
Tokyo University of science/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
TUS/AIST
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
鬼頭 愛
/
Ai Kitoh
/
キトウ アイ
第2著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
井上 悠
/
Hisashi Inoue
/
イノウエ ヒサシ
第3著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
井上 公
/
Isao H. Inoue
/
イノウエ イサオ
第4著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第5著者 所属(和/英)
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第6著者 所属(和/英)
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2024-11-01 09:20:00
発表時間
20分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号(vol)
vol.
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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