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講演抄録／キーワード
講演名 2025-08-06 10:30
［招待講演］原子層堆積法で成膜した真性移動度120cm2/Vsを超える多結晶Ga-doped In2O3ナノシート
○髙橋崇典（奈良先端大）・星井拓也（Science Tokyo）・霍間勇輝・砂川美佐・笘井重和（出光興産）・朴　鍾鎬・玉元海樹・角嶋邦之（Science Tokyo）・浦岡行治（奈良先端大）
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-SDM IEICE-ICD IST  
開催期間 2025-08-06 - 2025-08-08 
開催地（和） 北海道大学薬学部第二講義室 
開催地（英） Hokkaido Univ. Prmaceutical of Science 
テーマ（和） アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 
テーマ（英） Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2025-08-SDM-ICD-IST 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） 原子層堆積法で成膜した真性移動度120cm2/Vsを超える多結晶Ga-doped In2O3ナノシート 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Atomic layer deposited Ga-doped In2O3 nanosheet with intrinsic mobility over 120 cm2/Vs 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 髙橋 崇典 / Takanori Takahashi / タカハシ タカノリ
第1著者 所属（和/英） 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 星井 拓也 / Takuya Hoshii / ホシイ タクヤ
第2著者 所属（和/英） 東京科学大学 (略称： Science Tokyo)
Institute of Science Tokyo (略称： Science Tokyo)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 霍間 勇輝 / Yuki Tsuruma / ツルマ ユウキ
第3著者 所属（和/英） 出光興産株式会社 (略称： 出光興産)
Idemitsu Kosan Co., Ltd. (略称： Idemitsu Kosan)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 砂川 美佐 / Misa Sunagawa / スナガワ ミサ
第4著者 所属（和/英） 出光興産株式会社 (略称： 出光興産)
Idemitsu Kosan Co., Ltd. (略称： Idemitsu Kosan)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 笘井 重和 / Shigekazu Tomai / トマイ シゲカズ
第5著者 所属（和/英） 出光興産株式会社 (略称： 出光興産)
Idemitsu Kosan Co., Ltd. (略称： Idemitsu Kosan)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 朴 鍾鎬 / Jongho Park / パク ジョンホ
第6著者 所属（和/英） 東京科学大学 (略称： Science Tokyo)
Institute of Science Tokyo (略称： Science Tokyo)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 玉元 海樹 / Hiroki Tamamoto / タマモト ヒロキ
第7著者 所属（和/英） 東京科学大学 (略称： Science Tokyo)
Institute of Science Tokyo (略称： Science Tokyo)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ） 角嶋 邦之 / Kuniyuki Kakushima / カクシマ クニユキ
第8著者 所属（和/英） 東京科学大学 (略称： Science Tokyo)
Institute of Science Tokyo (略称： Science Tokyo)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ） 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル
第9著者 所属（和/英） 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2025-08-06 10:30:00 
発表時間 45分 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号（vol） vol.49 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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