| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2026-03-04 17:40
フォトリソグラフィによる位相ホログラムの形成に向けた二値位相最適化
○橋本征哉・都竹千尋・高橋桂太・藤井俊彰（名大） |
| 抄録 |
（和） |
フォトリソグラフィを用いて位相ホログラムを形成する場合，レジストによる位相変調がゼロ波長または半波長に限定されることがある．この制約を踏まえ，二値の位相変調に基づいて像再生を可能とするホログラムの最適化手法を提案する．Gerchberg–Saxton 法などにより最適化した位相を単純に二値化する従来手法と比較し，提案手法が再生像の品質の観点から有効であることを示す． |
| （英） |
In photolithographic fabrication of phase-only holograms, the phase modulation introduced by photoresist layers is often restricted to discrete values such as zero and half wavelengths. Under this constraint, we propose a hologram optimization method that enables image reconstruction from binary phase modulation. Unlike conventional approaches that binarize a continuously optimized phase, the proposed method incorporates the binary phase constraint into the optimization process. Experimental results demonstrate that the proposed method achieves superior reconstruction performance compared with conventional approaches. |
| キーワード |
（和） |
フォトリソグラフィ / 位相ホログラム / 二値位相最適化 / / / / / |
| （英） |
photolithography / phase hologram / binary phase optimization / / / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 50, no. 8, 3DMT2026-29, pp. 113-116, 2026年3月. |
| 資料番号 |
3DMT2026-29 |
| 発行日 |
2026-02-24 (3DMT) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2424-1970 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
3DMT |
| 開催期間 |
2026-03-03 - 2026-03-04 |
| 開催地（和） |
東京農工大学小金井キャンパス 新1号館1Fグリーンホール |
| 開催地（英） |
Tokyo University of Agriculture and Technology |
| テーマ（和） |
AR/VR/メタバース/AI技術における立体映像、立体音響、立体メディア技術一般、及び人間工学的安全性 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
3DMT |
| 会議コード |
2026-03-3DMT |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
フォトリソグラフィによる位相ホログラムの形成に向けた二値位相最適化 |
| サブタイトル（和） |
|
| タイトル（英） |
Binary Phase Optimization for Photolithographic Fabrication of Phase-only Holograms |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
フォトリソグラフィ / photolithography |
| キーワード(2)（和/英） |
位相ホログラム / phase hologram |
| キーワード(3)（和/英） |
二値位相最適化 / binary phase optimization |
| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
橋本 征哉 / Seiya Hashimoto / ハシモト セイヤ |
| 第1著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
都竹 千尋 / Chihiro Tsutake / ツタケ チヒロ |
| 第2著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
高橋 桂太 / Keita Takahashi / タカハシ ケイタ |
| 第3著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
藤井 俊彰 / Toshiaki Fujii / フジイ トシアキ |
| 第4著者 所属（和/英） |
名古屋大学 (略称： 名大)
Nagoya University (略称： Nagoya Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第30著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第33著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第34著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第35著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2026-03-04 17:40:00 |
| 発表時間 |
20分 |
| 申込先研究会 |
3DMT |
| 資料番号 |
3DMT2026-29 |
| 巻番号（vol） |
vol.50 |
| 号番号（no） |
no.8 |
| ページ範囲 |
pp.113-116 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2026-02-24 (3DMT) |