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講演抄録/キーワード
講演名
2026-03-27 13:35
A Monolithic Dual-Layer Pixel Design with BEOL IGZO Transistors featuring High Dual Conversion Gain Ratio and Scaled Pixel Size for Future Image Sensors
○
Kishou Kaneko
(
Huawei Japan
)・
S. Chen
・
H. Wang
・
L. Kang
・
Y. Li
・
W. Cui
・
S. Lu
・
W. Zhao
・
Y. Wang
・
Y. Yin
・
Y. Shao
・
Z. Lin
・
X. Cui
・
Y. Wu
(
Huawei
)
抄録
(和)
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(英)
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キーワード
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文献情報
映情学技報, vol. 50, no. 14, IST2026-20, pp. 44-47, 2026年3月.
資料番号
IST2026-20
発行日
2026-03-20 (IST)
ISSN
Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会
IST
開催期間
2026-03-27 - 2026-03-27
開催地(和)
機械振興会館
開催地(英)
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和)
固体撮像技術および一般
テーマ(英)
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IST
会議コード
2026-03-IST
本文の言語
英語
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英)
A Monolithic Dual-Layer Pixel Design with BEOL IGZO Transistors featuring High Dual Conversion Gain Ratio and Scaled Pixel Size for Future Image Sensors
サブタイトル(英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
金子 貴昭
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Kishou Kaneko
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第1著者 所属(和/英)
華為技術日本
(略称:
華為技術日本
)
Huawei Technologies Japan
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Huawei Japan
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第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
S. Chen
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S. Chen
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第2著者 所属(和/英)
華為技術
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華為
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第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
H. Wang
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H. Wang
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第3著者 所属(和/英)
華為技術
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第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
L. Kang
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L. Kang
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第4著者 所属(和/英)
華為技術
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
Y. Li
/
Y. Li
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華為技術
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華為
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Huawei Technologies Japan
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
W. Cui
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華為技術
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Huawei Technologies Japan
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
S. Lu
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S. Lu
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第7著者 所属(和/英)
華為技術
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
W. Zhao
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W. Zhao
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第8著者 所属(和/英)
華為技術
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華為
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Huawei Technologies Japan
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
Y. Wang
/
Y. Wang
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華為技術
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Huawei Technologies Japan
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
Y. Yin
/
Y. Yin
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華為技術
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
Y. Shao
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Y. Shao
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華為技術
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華為
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Huawei Technologies Japan
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
Z. Lin
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Z. Lin
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
X. Cui
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
Y. Wu
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第28著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第33著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第36著者 所属(和/英)
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講演者
第1著者
発表日時
2026-03-27 13:35:00
発表時間
25分
申込先研究会
IST
資料番号
IST2026-20
巻番号(vol)
vol.50
号番号(no)
no.14
ページ範囲
pp.44-47
ページ数
4
発行日
2026-03-20 (IST)
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