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マルチメディアストレージ研究会（MMS） [schedule] [select]
委員長 木下 延博 (NHK)
担当幹事 本間 聡 (山梨大)， 吉村 哲 (秋田大)

磁気記録・情報ストレージ研究会（IEICE-MRIS） [schedule] [select]
専門委員長 仲村 泰明 (愛媛大)
幹事 菊池 伸明 (秋田大)， 山路 俊樹 (産総研)
幹事補佐 丸山 敬裕 (レゾナック)， 大竹 充 (横浜国大)

電子部品・材料研究会（IEICE-CPM） [schedule] [select]
専門委員長 寺迫 智昭 (愛媛大)
副委員長 武山 真弓 (北見工大)
幹事 番場 教子 (信州大)， 中澤 日出樹 (弘前大)
幹事補佐 木村 康男 (東京工科大)， 廣瀬 文彦 (山形大)， 中村 雄一 (豊橋技科大)， 有馬 ボシールアハンマド (山形大)， 岩田 展幸 (日大)

日時 2025年10月16日(木)　13:00 - 17:30
2025年10月17日(金)　09:00 - 11:40
議題 スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス＋一般 
会場名 豊橋技術科学大学 サテライト・オフィス 
住所 〒440-0888 愛知県豊橋市駅前大通二丁目81番地 emCAMPUS East 5階
交通案内 JR、名鉄「豊橋」駅東口より徒歩５分
https://www.em-campus.jp/access/
会場世話人
連絡先		 豊橋技術科学大学電気・電子情報工学系 中村雄一
他の共催 ◆映像情報メディア学会 マルチメディアストレージ研究会；電子情報通信学会 磁気記録・情報ストレージ研究会,IEEE CE Soc. Japan Chapter共催
参加費に
ついて		 この開催は「技報完全電子化」研究会です．参加費（MMS研究会）についてはこちらをご覧ください．
聴講参加申込 本研究会（ハイブリッド開催）へ参加ご希望の方は，上記「参加費について」より事前にお申込み（オンラインで聴講参加費または年間登録費をお支払い）ください．（既に年間登録されている方は，開催毎のお申込みは不要です）
※当日会場での現金受付はございません．現地聴講参加予定の方も，必ず事前のお申込みをお願いいたします．

◎『予稿ダウンロード不要の学生』の方は，聴講参加費支払い手続きは不要ですが，研究会担当（gyoji@ite.or.jp）まで，(1)氏名，(2)所属大学，(3)参加希望研究会名／開催日，(4)「現地参加」 or 「オンライン参加」をお知らせください．

申込締切：10/13（月）
参加用URL送付：10/14（火）予定

10月16日(木) 午後 
13:00 - 17:30
(1)
IEICE-MRIS		 13:00-13:50 ［招待講演］超伝導回路による高速乱数生成とその応用 ○山梨裕希（横浜国大）
(2)
IEICE-MRIS		 13:50-14:40 ［招待講演］高周波スピントロニクスデバイスの新機能と特性 ○後藤　穣（東理大）
  14:40-14:50 休憩　（ 10分 ）
(3)
MMS		 14:50-15:40 ［招待講演］軟磁性Fe基合金薄膜のエピタキシャル成長技術と磁歪特性評価 ○大竹　充・今村光佑（横浜国大）
(4)
IEICE-MRIS		 15:40-16:05 電圧制御型磁気トンネル接合の高性能化に向けた高品質トップフリーCoFe超薄膜の極低温結晶成長 ○一ノ瀬智浩・山本竜也・野﨑隆行・薬師寺　啓・田丸慎吾・湯浅新治（産総研）
  16:05-16:15 休憩　（ 10分 ）
(5)
MMS		 16:15-16:40 反応性パルスDCスパッタリング法によるBiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の高品位作製 ○吉村　哲・Swati S. DAS・江川元太（秋田大）
(6)
IEICE-MRIS		 16:40-17:05 垂直磁界アシスト式振動発電デバイスにおける磁束還流挙動評価とヨークによる出力増加効果 ○今村圭佑・神谷　颯・中村優太・大竹　充（横浜国大）
(7)
IEICE-CPM		 17:05-17:30 走査型磁気光学顕微鏡の観察結果を用いた磁化分布推定 ○蛯原　翼・小宮亮汰・松浦聖直・中村雄一・林　攀梅（豊橋技科大）
10月17日(金) 午前 
09:00 - 11:40
(8)
IEICE-MRIS		 09:00-09:50 ［招待講演］高性能スピントロニクス実現に向けて：スピンと軌道の交差点 ○金　俊延（産総研）
(9)
IEICE-MRIS		 09:50-10:40 ［招待講演］テンソルネットワーク法を用いた磁性体の研究 ○大久保　毅（東大）
  10:40-10:50 休憩　（ 10分 ）
(10)
IEICE-CPM		 10:50-11:15 プラズマCVDにより作製したSiおよびN添加DLC膜のトライボロジー特性および電気的特性 ○竹村凜太朗・山崎雄也・伊東翔太・鈴木裕史・遠田義晴・小林康之・中澤日出樹（弘前大）
(11)
IEICE-CPM		 11:15-11:40 複数のK/Na比の混合粉末から作製したK₀.₄₅Na₀.₅₅NbO₃セラミックスの特性 木村一仁・○番場教子（信州大）

講演時間
一般講演発表 20 分 ＋ 質疑応答 5 分
招待講演発表 45 分 ＋ 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
MMS マルチメディアストレージ研究会（MMS）   [今後の予定はこちら]
問合先  
IEICE-MRIS 磁気記録・情報ストレージ研究会（IEICE-MRIS）   [今後の予定はこちら]
問合先 山路俊樹(産総研)
TEL 050-3521-1260
E--mail: -aist 
お知らせ ◎最新情報は，MRIS研究会ホームページをご覧下さい．
http://www.ieice.org/es/mris/jpn/
IEICE-CPM 電子部品・材料研究会（IEICE-CPM）   [今後の予定はこちら]
問合先 中村 雄一 (豊橋技術科学大学)
email: itut 


Last modified: 2025-08-21 10:51:11


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