| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2010-03-26 16:10
0.9um Pitch Pixle CMOSイメージセンサ設計手法
○糸長総一郎・水田恭平・片岡豊隆・柳田将志・山内真太郎・池田晴美・春田 勉・松本静徳・原沢正規・松田 健・松本 晃・水野生枝・亀嶋隆季・杉浦 巌・平山照峰（ソニー） |
| 抄録 |
（和） |
我々は、画素ピッチ縮小に伴い顕在化する光回折ロスを一定に保つ定光回折スケーリング画素設計手法を考案した。
遮光メタル開口/高さ及びPD開口の関係を解析し、画素ピッチに関係なく高量子効率を得る設計手法を実証した。
本手法を用いて世界初0.9及び1.12umカラー画出しを実現し、将来必要となる
遮光メタルのTechnology node予測も行った。 |
| （英） |
We proposed the constant-light-diffraction methodology in order to design the CMOS image sensor (CIS).
We developed a reliable guideline, and verified it using CISs with various pixel pitches and number of metal wiring layers.
Using this guideline, we realized the first ever successful fabrication of 1.12 and 0.9m pitch CISs and simulated that the light shield technology node in order to satisfy the guideline for the future. |
| キーワード |
（和） |
イメージセンサ / 量子効率 / 画素ピッチ / 回折光 / 開口率 / 遮光 / 表面照射 / 裏面照射 |
| （英） |
image sensor / quantum Efficiency / pixel pitch / diffraction light / apature ratio / light shield / FSI / BSI |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 34, no. 16, IST2010-20, pp. 55-58, 2010年3月. |
| 資料番号 |
IST2010-20 |
| 発行日 |
2010-03-19 (IST, CE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 1342-6893 |
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