| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2012-05-28 13:00
［ポスター講演］紫外光高感度・高信頼性を有する原子オーダー平坦Si表面を用いたフォトダイオードのドーパントプロファイル
○中澤泰希・黒田理人・幸田安真・須川成利（東北大） |
| 抄録 |
（和） |
紫外光に対して高感度かつ経時的な感度劣化を生じないセンサ実現のために，原子オーダー平坦化Si表面を用いたフォトダイオードの表面高濃度層プロファイルを作り変えることで表面光電荷ドリフト層と紫外光感度・信頼性の関係を評価した．紫外光照射による紫外光感度の変化は紫外光照射による絶縁膜中の固定電荷や界面付近のトラップの生成によって起こることを突き止め，紫外光高感度化・高信頼化のためのフォトダイオードのドーパントプロファイルを提案した． |
| （英） |
For sensors with high ultraviolet light (UV-light) sensitivity and high stability to UV-light, photodiodes with various surface high concentration layer profiles formed on the atomically flat Si surface were evaluated to investigate the relationships between the surface photo-generated carrier drift layer and sensitivity and stability to UV-light. It was clarified that the change of UV-light sensitivity due to UV-light exposure is caused by the generation of fixed charges in SiO2 and traps near the Si/SiO2 interface. Finally, photodiode dopant profile for high sensitivity and stability to UV-light was proposed. |
| キーワード |
（和） |
紫外光センサ / 原子オーダー平坦Si表面 / 表面光電荷ドリフト層 / / / / / |
| （英） |
UV-light Sensor / Atomically Flat Si Surface / Surface Photo-generated Drift Layer / / / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 36, no. 20, IST2012-21, pp. 19-22, 2012年5月. |
| 資料番号 |
IST2012-21 |
| 発行日 |
2012-05-21 (IST) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 1342-6893 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
IST |
| 開催期間 |
2012-05-28 - 2012-05-28 |
| 開催地（和） |
埼玉大学東京ステーションカレッジ |
| 開催地（英） |
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| テーマ（和） |
高機能イメージセンシングとその応用 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IST |
| 会議コード |
2012-05-IST |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
紫外光高感度・高信頼性を有する原子オーダー平坦Si表面を用いたフォトダイオードのドーパントプロファイル |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Photodiode dopant profile with atomically flat Si surface for high sensitivity and stability to UV-light. |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
紫外光センサ / UV-light Sensor |
| キーワード(2)（和/英） |
原子オーダー平坦Si表面 / Atomically Flat Si Surface |
| キーワード(3)（和/英） |
表面光電荷ドリフト層 / Surface Photo-generated Drift Layer |
| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
中澤 泰希 / Taiki Nakazawa / ナカザワ タイキ |
| 第1著者 所属（和/英） |
東北大学 (略称： 東北大)
Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
黒田 理人 / Rihito Kuroda / クロダ リヒト |
| 第2著者 所属（和/英） |
東北大学 (略称： 東北大)
Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
幸田 安真 / Yasumasa Koda / コウダ ヤスマサ |
| 第3著者 所属（和/英） |
東北大学 (略称： 東北大)
Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
須川 成利 / Shigetoshi Sugawa / スガワ シゲトシ |
| 第4著者 所属（和/英） |
東北大学 (略称： 東北大)
Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第5著者 所属（和/英） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 所属（和/英） |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 所属（和/英） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 所属（和/英） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2012-05-28 13:00:00 |
| 発表時間 |
60分 |
| 申込先研究会 |
IST |
| 資料番号 |
IST2012-21 |
| 巻番号（vol） |
vol.36 |
| 号番号（no） |
no.20 |
| ページ範囲 |
pp.19-22 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2012-05-21 (IST) |