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講演抄録/キーワード
講演名 2016-01-28 15:04
プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 ~ プラズマ処理時の基板バイアスの効果 ~
曲 勇作戸田達也牧野久雄古田 守高知工科大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970

研究会情報
研究会 IEICE-EID IDY IEE-EDD SID-JC IEIJ-SSL  
開催期間 2016-01-28 - 2016-01-29 
開催地(和) 富山大学 
開催地(英) Toyama Univ. 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ(英) Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2016-01-EID-IDY-EDD-JC-SSL 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 
サブタイトル(和) プラズマ処理時の基板バイアスの効果 
タイトル(英) Plasma treatment for source/drain regions of self-aligned InGaZnO thin-film. 
サブタイトル(英) Effects of substrate bias during the plasma treatment of IGZO. 
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 曲 勇作 / Yusaku Magari / マガリ ユウサク
第1著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 戸田 達也 / Tatsuya Toda / トダ タツヤ
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 牧野 久雄 / Hisao Makino / マキノ ヒサオ
第3著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 古田 守 / Mamoru Furuta / フルタ マモル
第4著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.)
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講演者
発表日時 2016-01-28 15:04:00 
発表時間
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-40 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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