研究会情報 |
研究会 |
IEICE-EID IDY IEE-EDD SID-JC IEIJ-SSL |
開催期間 |
2016-01-28 - 2016-01-29 |
開催地(和) |
富山大学 |
開催地(英) |
Toyama Univ. |
テーマ(和) |
発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 |
テーマ(英) |
Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
IEICE-EID |
会議コード |
2016-01-EID-IDY-EDD-JC-SSL |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 |
サブタイトル(和) |
プラズマ処理時の基板バイアスの効果 |
タイトル(英) |
Plasma treatment for source/drain regions of self-aligned InGaZnO thin-film. |
サブタイトル(英) |
Effects of substrate bias during the plasma treatment of IGZO. |
キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
曲 勇作 / Yusaku Magari / マガリ ユウサク |
第1著者 所属(和/英) |
高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
戸田 達也 / Tatsuya Toda / トダ タツヤ |
第2著者 所属(和/英) |
高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
牧野 久雄 / Hisao Makino / マキノ ヒサオ |
第3著者 所属(和/英) |
高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
古田 守 / Mamoru Furuta / フルタ マモル |
第4著者 所属(和/英) |
高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. of Technol.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2016-01-28 15:04:00 |
発表時間 |
8分 |
申込先研究会 |
IEICE-EID |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol.40 |
号番号(no) |
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ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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