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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-25 13:45
Arクラスター照射によるDNA/Si-MOSFETに対する影響
中野 響松尾直人部家 彰山名一成高田忠雄盛谷浩右乾 徳夫佐藤 佑兵庫県立大)・佐藤 旦横山 新広島大
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IEICE-SDM IDY  
開催期間 2018-12-25 - 2018-12-25 
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地(英)  
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2018-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Arクラスター照射によるDNA/Si-MOSFETに対する影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of Ar-cluster irradiation on DNA/Si-MOSFET 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 中野 響 / Hibiki Nakano / ナカノ ヒビキ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 直人 / Naoto Mastuo / マツオ ナオト
第2著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ
第3著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山名 一成 / Kazushige Yamana / ヤマナ カズシゲ
第4著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 高田 忠雄 / Tadao Takada / タカダ タダオ
第5著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 盛谷 浩右 / Kousuke Moritani / モリタニ コウスケ
第6著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 乾 徳夫 / Norio Inui / イヌイ ノリオ
第7著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 佑 / Yu Sato / サトウ ユウ
第8著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. Hyogo)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 旦 / Tadashi Sato / サトウ タダシ
第9著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 横山 新 / Shin Yokoyama / ヨコヤマ シン
第10著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
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講演者
発表日時 2018-12-25 13:45:00 
発表時間 15 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-42 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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