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講演抄録/キーワード
講演名 2019-06-14 09:15
[招待講演]BiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の記録・映像デバイス応用への試み ~ 薄膜の高品位作製および材料探索から機能検証まで ~
吉村 哲クパン ムヌサミー秋田大
抄録 (和) 超低消費電力・超大容量の記録デバイス用次々世代磁気メモリや,超低消費電力・高解像度の映像デバイス用次々世代光変調素子,などの実現を目指して,強磁性・強誘電材料での「電界印加のみによる完全磁化反転」の実証を試みた.まず,強磁性・強誘電薄膜を高品位に作製するために,近年開発された反応性パルスDCスパッタリング法を用い,その成膜条件を検討した.そして,その作製条件を用いて,デバイス応用に適した物性を有する強磁性・強誘電材料を探索した.作製した薄膜に局所電界印加を施したところ,磁気力顕微鏡による解析において,最小で300 nm程度の明瞭な磁気コントラストが得られ,磁化が電界により誘起されたことを確認した. 
(英) Multiferroic materials with magneto-electric effect such as Bi-based ferrite, which simultaneously exhibit spontaneous polarization and magnetization, have been receiving greater attention because of their promising applications in the design of multifunctional devices with low power consumption. In this study, we fabricated the highly-qualified multiferroic (Bi1-xLax)(Fe0.75Co0.25)O3 thin films with higher coercivity of about 4 kOe and perpendicular magnetic anisotropy by using reactive pulsed DC sputtering method. We also demonstrated the inducement of magnetic domain with the width of 300 nm by the local electric writing. This functionality is suitable for memory or display devices application.
キーワード (和) 強磁性・強誘電薄膜 / 反応性パルスDCスパッタリング法 / 電界印加磁化反転 / 新規磁気デバイス / / / /  
(英) Multiferroic films / Reactive pulsed DC sputtering / Magnetic reversal by electric field / New magnetic devices / / / /  
文献情報 映情学技報, vol. 43, no. 15, MMS2019-50, pp. 37-43, 2019年6月.
資料番号 MMS2019-50 
発行日 2019-06-06 (MMS) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS MMS  
開催期間 2019-06-13 - 2019-06-14 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英) Tohoku Univ. 
テーマ(和) 記録システム,一般 
テーマ(英) Recording Systems, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MMS 
会議コード 2019-06-MRIS-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) BiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の記録・映像デバイス応用への試み 
サブタイトル(和) 薄膜の高品位作製および材料探索から機能検証まで 
タイトル(英) Attempt of application to memory or display devices in BiFeO3-based multiferroic films 
サブタイトル(英) Fabrication of high-qualified films, material research, and functional verification 
キーワード(1)(和/英) 強磁性・強誘電薄膜 / Multiferroic films  
キーワード(2)(和/英) 反応性パルスDCスパッタリング法 / Reactive pulsed DC sputtering  
キーワード(3)(和/英) 電界印加磁化反転 / Magnetic reversal by electric field  
キーワード(4)(和/英) 新規磁気デバイス / New magnetic devices  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉村 哲 / Satoru Yoshimura / ヨシムラ サトル
第1著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) クパン ムヌサミー / Munusamy Kuppan / クパン ムヌサミー
第2著者 所属(和/英) 秋田大学 (略称: 秋田大)
Akita University (略称: Akita Univ.)
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講演者
発表日時 2019-06-14 09:15:00 
発表時間 50 
申込先研究会 MMS 
資料番号 MMS2019-50 
巻番号(vol) 43 
号番号(no) no.15 
ページ範囲 pp.37-43 
ページ数
発行日 2019-06-06 (MMS) 


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