| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2020-01-23 13:05
［ポスター講演］c面サファイアおよびSi (111)基板上への六方晶BN薄膜のCVD成長
○名嘉眞朝泰・松下一貴・渡邊泰良・小南裕子・原 和彦（静岡大） |
| 抄録 |
（和） |
BCl3とNH3を原料とする減圧化学気相法（CVD）を用いて、c面サファイアおよびSi (111)基板上へ六方晶窒化ホウ素（h-BN）薄膜の作製を行った。特に、この原料系のCVDでSi基板を用いるのは、本研究が初めての試みである。Si基板上に作製した薄膜の表面モフォロジーは、同じ条件で作製したサファイア基板上の試料と同様のものであったが、カソードルミネッセンス測定では固有励起子発光（波長215 nm）がより顕著に観測された。これは、Si基板上に作製したh-BN薄膜としては初めての固有励起子発光の観測であり、BCl3を用いるCVDによりSi基板上へも良質なh-BN薄膜を作製できることを示している。さらに、基板加熱機構の変更、原料ガスに対する基板角度の調整、および基板温度依存性を明らかにすることから膜特性の改善を図った。 |
| （英） |
The hexagonal boron nitride (h-BN) thin films were grown on c-plane sapphire and Si (111) substrates by low-pressure chemical vapor deposition using BCl3 and NH3 as sources. The film grown on the Si substrate had the surface morphology similar to that on the sapphire substrate. However, it showed cathodoluminescence with improved intrinsic exciton emission, which is the first observation of intrinsic exciton emission for the h-BN films grown on Si substrate. This result leads us to expect the growth of high-quality h-BN films by the CVD with BCl3. To further improve the film properties, the heating method for substrates, the tilting angle of substrates and growth temperature were also examined. |
| キーワード |
（和） |
六方晶窒化ホウ素 / CVD / 薄膜 / カソードルミネッセンス / 深紫外発光 / / / |
| （英） |
hexagonal boron nitride / CVD / thin film / cathodoluminescence / deep-ultraviolet luminescence / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 44, no. 1, IDY2020-2, pp. 1-4, 2020年1月. |
| 資料番号 |
IDY2020-2 |
| 発行日 |
2020-01-16 (IDY) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 1342-6893 Online edition: ISSN 2424-1970 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
IDY IEICE-EID IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD |
| 開催期間 |
2020-01-23 - 2020-01-24 |
| 開催地（和） |
鳥取大鳥取キャンパス |
| 開催地（英） |
Tottori Univ |
| テーマ（和） |
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2020-01-IDY-EID-SSL-JC-EDD |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
c面サファイアおよびSi (111)基板上への六方晶BN薄膜のCVD成長 |
| サブタイトル（和） |
|
| タイトル（英） |
CVD growth of h-BN thin films on c-plane sapphire and Si (111) substrates |
| サブタイトル（英） |
|
| キーワード(1)（和/英） |
六方晶窒化ホウ素 / hexagonal boron nitride |
| キーワード(2)（和/英） |
CVD / CVD |
| キーワード(3)（和/英） |
薄膜 / thin film |
| キーワード(4)（和/英） |
カソードルミネッセンス / cathodoluminescence |
| キーワード(5)（和/英） |
深紫外発光 / deep-ultraviolet luminescence |
| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
名嘉眞 朝泰 / Tomoyasu Nakama / ナカマ トモヤス |
| 第1著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
松下 一貴 / Kazuki Matsusita / マツシタ カズキ |
| 第2著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
渡邊 泰良 / Taira Watanabe / ワタナベ タイラ |
| 第3著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
小南 裕子 / Hiroko Kominami / コミナミ ヒロコ |
| 第4著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
原 和彦 / Kazuhiko Hara / ハラ カズヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2020-01-23 13:05:00 |
| 発表時間 |
5分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2020-2 |
| 巻番号（vol） |
vol.44 |
| 号番号（no） |
no.1 |
| ページ範囲 |
pp.1-4 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2020-01-16 (IDY) |