| 研究会情報 |
| 研究会 |
IDY IEICE-EID IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD |
| 開催期間 |
2020-01-23 - 2020-01-24 |
| 開催地（和） |
鳥取大鳥取キャンパス |
| 開催地（英） |
Tottori Univ |
| テーマ（和） |
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2020-01-IDY-EID-SSL-JC-EDD |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
原子層堆積法による平坦なZnO薄膜の成長条件調査 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Investigation of growth conditions of flat ZnO thin films by atomic layer deposition |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
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| キーワード(2)（和/英） |
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| キーワード(3)（和/英） |
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| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
山本 燎 / Ryo Yamamoto / ヤマモト リョウ |
| 第1著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
加納 寛人 / Hiroto Kano / カノウ ヒロト |
| 第2著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
中村 篤志 / Atsushi Nakamura / ナカムラ アツシ |
| 第3著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
居波 渉 / Wataru Inami / イナミ ワタル |
| 第4著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第21著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第22著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第23著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第24著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第25著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第26著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第27著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第28著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第29著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第30著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第31著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第32著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第33著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第34著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第35著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2020-01-23 13:15:00 |
| 発表時間 |
5分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2020-4 |
| 巻番号（vol） |
vol.44 |
| 号番号（no） |
no.1 |
| ページ範囲 |
pp.9-12 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2020-01-16 (IDY) |