| 研究会情報 |
| 研究会 |
IDY IEICE-EID IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD |
| 開催期間 |
2020-01-23 - 2020-01-24 |
| 開催地（和） |
鳥取大鳥取キャンパス |
| 開催地（英） |
Tottori Univ |
| テーマ（和） |
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IEICE-EID |
| 会議コード |
2020-01-EID-IDY-SSL-JC-EDD |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
低温形成した陽極酸化アルミナ絶縁膜の膜物性評価とそのデバイス応用 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Physical properties of anodized aluminum oxide for low temperature processed IGZO thin-film transistors. |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
InGaZnO(IGZO) / InGaZnO(IGZO) |
| キーワード(2)（和/英） |
酸化アルミニウム / Aluminum oxide |
| キーワード(3)（和/英） |
陽極酸化 / anodization |
| キーワード(4)（和/英） |
薄膜トランジスタ（TFT） / Thin Film Transistor (TFT) |
| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
河野 守哉 / Kono Shuya / コウノ シュウヤ |
| 第1著者 所属（和/英） |
高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University Of Technology (略称： KUT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
森 海 / Mori Marin / モリ マリン |
| 第2著者 所属（和/英） |
高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University Of Technology (略称： KUT) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
是友 大地 / Koretomo Daichi / コレトモ ダイチ |
| 第3著者 所属（和/英） |
高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University Of Technology (略称： KUT) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
古田 守 / Furuta Mamoru / フルタ マモル |
| 第4著者 所属（和/英） |
高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University Of Technology (略称： KUT) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第34著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第35著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2020-01-24 11:10:00 |
| 発表時間 |
5分 |
| 申込先研究会 |
IEICE-EID |
| 資料番号 |
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| 巻番号（vol） |
vol.44 |
| 号番号（no） |
no.1 |
| ページ範囲 |
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| ページ数 |
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| 発行日 |
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