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講演抄録/キーワード
講演名 2020-07-01 13:30
Fabrication of Large-Size and High-Uniformity Thin Composite Emission Filter for Lens-Free Fluorescent Imager
Erus RustamiKiyotaka SasagawaThanet PakpuwadonYasumi OhtaHironari TakeharaMakito HarutaJun OhtaNAIST
抄録 (和) We report a composite emission filter fabrication using laser lift-off (LLO) and plasma etching method. The LLO used a high energy laser to separates filter from its substrate, whereas a SiF6 plasma etched silicon-substrate whereby the filter was deposited beforehand. As a result, spotless composite filters are successfully assembled in a micrometer-sized image sensor by LLO, yet the filter crack issue remains unsolved for large sensors. Conversely, the plasma etching produced large-size and spotless filters with relatively high reproducibility. This large-area etching capability, down to a centimeter range, can then be efficiently used for a multiple lens-free fluorescent device fabrication. 
(英) We report a composite emission filter fabrication using laser lift-off (LLO) and plasma etching method. The LLO used a high energy laser to separates filter from its substrate, whereas a SiF6 plasma etched silicon-substrate whereby the filter was deposited beforehand. As a result, spotless composite filters are successfully assembled in a micrometer-sized image sensor by LLO, yet the filter crack issue remains unsolved for large sensors. Conversely, the plasma etching produced large-size and spotless filters with relatively high reproducibility. This large-area etching capability, down to a centimeter range, can then be efficiently used for a multiple lens-free fluorescent device fabrication.
キーワード (和) Lens-free imaging / Interference filter / Absorption filter / Laser lift-off / Plasma etching / / /  
(英) Lens-free imaging / Interference filter / Absorption filter / Laser lift-off / Plasma etching / / /  
文献情報 映情学技報, vol. 44, no. 14, IST2020-34, pp. 1-5, 2020年7月.
資料番号 IST2020-34 
発行日 2020-06-24 (IST) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IST  
開催期間 2020-07-01 - 2020-07-01 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) 高機能イメージセンシングとその応用 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IST 
会議コード 2020-07-IST 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Large-Size and High-Uniformity Thin Composite Emission Filter for Lens-Free Fluorescent Imager 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Lens-free imaging / Lens-free imaging  
キーワード(2)(和/英) Interference filter / Interference filter  
キーワード(3)(和/英) Absorption filter / Absorption filter  
キーワード(4)(和/英) Laser lift-off / Laser lift-off  
キーワード(5)(和/英) Plasma etching / Plasma etching  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Erus Rustami / Erus Rustami /
第1著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Kiyotaka Sasagawa / Kiyotaka Sasagawa /
第2著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Thanet Pakpuwadon / Thanet Pakpuwadon /
第3著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) Yasumi Ohta / Yasumi Ohta /
第4著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) Hironari Takehara / Hironari Takehara /
第5著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) Makito Haruta / Makito Haruta /
第6著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) Jun Ohta / Jun Ohta /
第7著者 所属(和/英) Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
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講演者
発表日時 2020-07-01 13:30:00 
発表時間 30 
申込先研究会 IST 
資料番号 ITE-IST2020-34 
巻番号(vol) ITE-44 
号番号(no) no.14 
ページ範囲 pp.1-5 
ページ数 ITE-5 
発行日 ITE-IST-2020-06-24 


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