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講演抄録/キーワード
講演名 2022-01-31 14:00
MOD法によるガラス基板へのVO2薄膜の成膜と特性評価
扶川泰斗豊田和晃大内涼介小池一歩小山政俊和田英男大阪工大)・河原正美高純度化学研
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文献情報 映情学技報, vol. 46, no. 3, IST2022-2, pp. 3-5, 2022年1月.
資料番号 IST2022-2 
発行日 2022-01-24 (IST) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IST  
開催期間 2022-01-31 - 2022-01-31 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英)  
テーマ(和) 第19回赤外放射の応用関連学会年会(日本赤外線学会共催) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IST 
会議コード 2022-01-IST 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MOD法によるガラス基板へのVO2薄膜の成膜と特性評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 扶川 泰斗 / Taito Fukawa / フカワ タイト
第1著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 豊田 和晃 / Kazuaki Toyota /
第2著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大内 涼介 / Ryosuke Ouchi /
第3著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 小池 一歩 / Kazuho Koike /
第4著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小山 政俊 / Masatoshi Koyama /
第5著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 和田 英男 / Hideo Wada /
第6著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 大阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: Osaka Inst. of Tech.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 河原 正美 / Masami Kawahara /
第7著者 所属(和/英) 高純度化学研究所 (略称: 高純度化学研)
Kojundo Chemical Lab. Co., Ltd. (略称: Kojundo Chemical Lab.)
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講演者
発表日時 2022-01-31 14:00:00 
発表時間 15 
申込先研究会 IST 
資料番号 ITE-IST2022-2 
巻番号(vol) ITE-46 
号番号(no) no.3 
ページ範囲 pp.3-5 
ページ数 ITE-3 
発行日 ITE-IST-2022-01-24 


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