| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2023-06-08 15:25
高磁化Co基超常磁性グラニュラー薄膜の実現に向けた反応性パルスDCスパッタリング成膜法による非磁性酸・窒化物マトリックス用薄膜の作製
小林拓海・小野龍太郎・江川元太・○吉村 哲（秋田大） |
| 抄録 |
（和） |
ゼロ磁界の検出や全方位磁界の検出が可能な新機能磁気センサーなどの新しい磁気デバイスの創製を可能にし得る，高い磁化を有するCo基超常磁性グラニュラー薄膜を実現するためには，薄膜内Co含有量を多くしてもCo粒が超常磁性臨界サイズの6.9 nm以下になるように粒成長を抑制することが有効である．粒成長を抑制するためには高い成膜速度での薄膜作製が有効であると一般的に知られており，本研究グループでは実際に，Co基超常磁性グラニュラー薄膜の作製において，成膜速度を速くすることで超常磁性単相を維持できる薄膜内Co含有量を多く出来ることを確かめている．本研究では，Co粒のマトリックスとなる，一般的に成膜速度が極めて遅い酸化物薄膜を更に高速成膜するために，反応性パルスDCスパッタリング成膜法を用いてその成膜条件を検討した結果，低い酸素分圧のスパッタリング雰囲気でも化学量論組成の酸化物を高速に成膜できることが判った． |
| （英） |
In order to realize a Co-based superparamagnetic granular thin film with high magnetization, which can create new magnetic devices such as new functional magnetic sensors capable of detecting zero magnetic fields and omnidirectional magnetic fields, it is necessary to increase the concentration of Co grain with the size of less than 6.9 nm diameter in this thin film. To suppress the grain growth in thin films, in generally, higher deposition rate is effective, and authors already showed that the high speed deposition is effective to suppress the grain growth of Co to the size of less than 6.9 nm diameter in the superparamagnetic granular thin film. In this study, in order to realize the high speed deposition rate of the oxide thin film, which is matrix of Co grains and whose film deposition rate is generally extremely slow, we investigated the film fabrication process using a pulsed DC reactive sputtering method. It was found that an oxide with a stoichiometric composition can be formed at a high deposition rate even at a low oxygen partial pressure of sputtering gas. |
| キーワード |
（和） |
超常磁性薄膜 / 飽和磁化 / 反応性パルスDCスパッタリング / 高速成膜 / 磁気センサー / / / |
| （英） |
Superparamagnetic thin films / Saturation magnetization / Pulsed DC reactive sputtering / High deposition rate / Magnetic sensor / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 47, no. 17, MMS2023-35, pp. 1-8, 2023年6月. |
| 資料番号 |
MMS2023-35 |
| 発行日 |
2023-06-01 (MMS) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2424-1970 |
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