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講演抄録/キーワード
講演名 2023-09-15 15:10
A 3.06 μm SPAD Pixel with Embedded Metal Contact and Power Grid on Deep Trench Pixel Isolation for High-resolution Photon-counting
Tatsuya NakataJun OgiFumiaki SanoYoshiki KuboWataru OnishiCharith KoswaththagheTakeya MochizukiYoshiaki TashiroKazuki HizuTakafumi TakatsukaFumihiko KogaTomoyuki HiranoYusuke OikeSSS
抄録 (和) This paper presents a 3.06-μm-pitch SPAD pixel with the embedded metal contact and power grid on two-step deep trench isolation in the pixel. The embedded metal contact can suppress edge breakdown and can reduce dark count rate to 15.8 cps with the optimized potential design. The embedded metal for the contact is also used as an optical shield and low crosstalk probability 0.4% is achieved, while photon detection efficiency is as high as 57%. Additionally, the integration of a power grid and the polysilicon resistor on SPAD pixels can contribute to voltage drop reduction in anode power supply and power consumption reduction with SPAD multiplication, respectively. 
(英) This paper presents a 3.06-μm-pitch SPAD pixel with the embedded metal contact and power grid on two-step deep trench isolation in the pixel. The embedded metal contact can suppress edge breakdown and can reduce dark count rate to 15.8 cps with the optimized potential design. The embedded metal for the contact is also used as an optical shield and low crosstalk probability 0.4% is achieved, while photon detection efficiency is as high as 57%. Additionally, the integration of a power grid and the polysilicon resistor on SPAD pixels can contribute to voltage drop reduction in anode power supply and power consumption reduction with SPAD multiplication, respectively.
キーワード (和) SPAD / High-resolution Photon-counting / Two-step Deep Trench Isolation / / / / /  
(英) SPAD / High-resolution Photon-counting / Two-step Deep Trench Isolation / / / / /  
文献情報 映情学技報, vol. 47, no. 27, IST2023-44, pp. 37-40, 2023年9月.
資料番号 IST2023-44 
発行日 2023-09-08 (IST) 
ISSN Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IST  
開催期間 2023-09-15 - 2023-09-15 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) イメージセンサ一般(プロセス・デバイス・回路モデリング・実装技術・画像処理アルゴリズム等)完成品に限らず、企画段階の検討についても発表可能です。 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IST 
会議コード 2023-09-IST 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A 3.06 μm SPAD Pixel with Embedded Metal Contact and Power Grid on Deep Trench Pixel Isolation for High-resolution Photon-counting 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SPAD / SPAD  
キーワード(2)(和/英) High-resolution Photon-counting / High-resolution Photon-counting  
キーワード(3)(和/英) Two-step Deep Trench Isolation / Two-step Deep Trench Isolation  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 中田 達也 / Tatsuya Nakata / ナカタ タツヤ
第1著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小木 純 / Jun Ogi / オギ ジュン
第2著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐野 文昭 / Fumiaki Sano / サノ フミアキ
第3著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 久保 佳希 / Yoshiki Kubo / クボ ヨシキ
第4著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 大西 航 / Wataru Onishi / オオニシ ワタル
第5著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) コスワッタゲー チャリット / Charith Koswaththaghe / コスワッタゲー チャリット
第6著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 望月 健矢 / Takeya Mochizuki / モチズキ タケヤ
第7著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 田代 睦聡 / Yoshiaki Tashiro / タシロ ヨシアキ
第8著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 比津 和樹 / Kazuki Hizu / ヒズ カズキ
第9著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 高塚 挙文 / Takafumi Takatsuka / タカツカ タカフミ
第10著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 古閑 史彦 / Fumihiko Koga / コガ フミヒコ
第11著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 智之 / Tomoyuki Hirano / ヒラノ トモユキ
第12著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 大池 祐輔 / Yusuke Oike / オオイケ ユウスケ
第13著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニー)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-09-15 15:10:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IST 
資料番号 IST2023-44 
巻番号(vol) vol.47 
号番号(no) no.27 
ページ範囲 pp.37-40 
ページ数
発行日 2023-09-08 (IST) 


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